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查看: 2209|回复: 2

[求助] 关于TSMC22nm工艺WPE和LOD效应问题

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发表于 2022-11-14 10:16:42 | 显示全部楼层 |阅读模式

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请教各位有没有什么文档有介绍在TSMC22 nm工艺中MOS旁边要加多少微米的dummy可以完全消除WPE和LOD效应啊?
发表于 2022-11-18 09:45:02 | 显示全部楼层
22你就跟drc要求加就行,双dummy
发表于 2023-6-25 20:25:35 | 显示全部楼层
请问下前辈,我现在后仿真抽取PEX时,选择noRC,结果现在偏置电路提供的偏置电压比前仿真大20mV(电流镜提供偏置),所以应该是二级效应导致的,下一步我不知道该怎么确定是LOD还是WPE又或者其他二级效应导致的;我在管子周围加了dummy,没改善,求大佬指点指点
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