关于TSMC22nm工艺WPE和LOD效应问题

494691413 · 发表于 2022-11-14 10:16:42

您需要登录才可以下载或查看，没有账号？注册

x

请教各位有没有什么文档有介绍在TSMC22 nm工艺中MOS旁边要加多少微米的dummy可以完全消除WPE和LOD效应啊？

李艳小瓶子 · 发表于 2022-11-18 09:45:02

22你就跟drc要求加就行，双dummy

krr · 发表于 2023-6-25 20:25:35

请问下前辈，我现在后仿真抽取PEX时，选择noRC，结果现在偏置电路提供的偏置电压比前仿真大20mV(电流镜提供偏置)，所以应该是二级效应导致的，下一步我不知道该怎么确定是LOD还是WPE又或者其他二级效应导致的；我在管子周围加了dummy，没改善，求大佬指点指点

范十一 · 发表于 2024-11-27 17:54:48

krr 发表于 2023-6-25 20:25
请问下前辈，我现在后仿真抽取PEX时，选择noRC，结果现在偏置电路提供的偏置电压比前仿真大20mV(电流镜提供 ...

可能不是二阶效应造成的，你先看一下你偏置电路里面的电阻，我们在用TSMC22的时候发现，电阻尺寸太小的话，提取的电阻后仿真会和前仿真偏差0.5~10%左右，调取默认尺寸0.5%偏差，长宽一起缩小10倍，后仿真就比前仿多了8.87%的电阻

[求助] 关于TSMC22nm工艺WPE和LOD效应问题