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[求助] smic40nm cell PMOS xl 调出来Nw 边框超级大,直接从PDK调用其实边框很小,是什么参数影响?

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发表于 2022-11-9 11:18:17 | 显示全部楼层 |阅读模式

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smic40nm cell PMOS xl 调出来Nw 边框超级大,直接从PDK调用同类型的pmos 版图nw 边框很小如下图所示:
cell 里面PMOS xl 调出PMOS NW边框很大后,然后把schematic PMOS symbol 删掉,重新从PDK调用symbol. 然后再XL 调用版图,NW 边框也是很小。
怀疑这个电路图可能从别的工艺转pdk的,参数异常。 不知道是什么参数影响NW大小?大家知道的话,请不吝赐教,谢谢~

image.png
发表于 2022-11-9 12:26:54 | 显示全部楼层
DFM     WPE?
 楼主| 发表于 2022-11-9 13:35:15 | 显示全部楼层


谢谢,找到了,原来这个参数变了,如下图q 属性里面,电路里面是applyTo Pcell 就是nw很大, 然后换成sim only nw 就一点点了。
image.png
发表于 2022-11-9 14:18:08 | 显示全部楼层
学到了学到了,检查了一下我的parameter选项没有WPE相关的选项
发表于 2022-11-9 14:53:19 | 显示全部楼层
看一下是不是电路的管子里有某个设置的关系,XL调出来的配置是和电路里一致的。随手调的管子可能和电路里的没关系。
发表于 2022-11-9 14:58:06 | 显示全部楼层
dfm和wpe都会影响nw大小,看看检查一下
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