在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
查看: 1386|回复: 4

[资料] 工艺上关于器件的一些知识

[复制链接]
发表于 2022-6-22 11:13:48 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
主要介绍一下NBL/PBL的作用、Native MOS 本征MOS、Drain Extended Metal Oxide Semiconductor (DEMOS)漏极扩展金属氧化物半导体、SILICIDE、POLYCIDE、SALICIDE以及不同电阻的区别,便于模拟设计师能够较好的理解这些器件以及器件的选择

关于工艺的知识点.pdf

353.68 KB, 下载次数: 81 , 下载积分: 资产 -2 信元, 下载支出 2 信元

售价: 5 信元资产  [记录]

发表于 2022-6-22 20:58:57 | 显示全部楼层
谢谢分享!
发表于 2022-6-23 08:13:39 | 显示全部楼层
谢谢分享
发表于 2022-6-23 09:41:18 | 显示全部楼层
看看
发表于 2022-6-23 16:32:06 | 显示全部楼层
谢谢分享!
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /1 下一条

小黑屋| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-3-28 18:27 , Processed in 0.023452 second(s), 8 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表