在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
查看: 1272|回复: 2

[求助] GAA器件制造第一步的Si/GeSi超晶格外延应该怎么做呢?

[复制链接]
发表于 2022-5-27 16:04:02 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
比如想要在外延三层Si/GeSi结构,每层厚度为8nm,Si层是要作为mos管通道的,比如用RPCVD详细工艺要怎么做哇?

发表于 2022-6-14 20:36:44 | 显示全部楼层
RPCVD做的Si能做沟道?leakage太大了!单晶Si/SiGe 要特殊的机台EPI才行
发表于 2023-3-10 14:28:25 | 显示全部楼层
这个目前用于量产的Finfet的SiGe EPI机台都可以做,Centura300 EPI和Intrepid ES,都属于A商,国产要再等等
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /2 下一条

×

小黑屋| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-5-13 03:37 , Processed in 0.018430 second(s), 7 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表