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EETOP 创芯网论坛 (原名：电子顶级开发网)»论坛 › IC 设计及制造（半导体、微电子） › 后端设计 › 后端讨论区 › TSMC 28nm工艺DRC问题
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查看: 3062|回复: 7

[求助] TSMC 28nm工艺DRC问题

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Amber_006
发表于 2022-4-21 16:00:19 | 显示全部楼层 |阅读模式

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tsmc 28nm工艺在做drc时跑出了很多的错误，大部分都是poly和dummy间距的问题，第一次使用这个工艺，标准单元是标准单元库的，PO pitch为140，看design rule需要覆盖一层DMY_SCH层，但覆盖上之后还是有很多错误，像PO.S.4.3和SR_DPO.EX.3.3这样的错误该怎么改，还少了什么识别层吗？
微信图片_20220421154044_极光看图.jpg
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zhang12232015
发表于 2022-4-21 16:55:54 | 显示全部楼层
试试在两端再各加一个dummy ploy
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Amber_006
 楼主| 发表于 2022-4-21 17:21:18 | 显示全部楼层


zhang12232015 发表于 2022-4-21 16:55
试试在两端再各加一个dummy ploy


但我这个已经是filler cell了，里面都是poly dummy，还要在cell外面加吗
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spartan313
发表于 2022-4-21 18:14:36 | 显示全部楼层
你是跑的DFM的rule吗
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Amber_006
 楼主| 发表于 2022-4-22 09:28:58 | 显示全部楼层


geo24 发表于 2022-4-21 18:14
你是跑的DFM的rule吗


不是，DFM的开关给关掉了，没有检查DFM的rule
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unix_amr
发表于 2022-4-27 03:10:59 | 显示全部楼层
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Amber_006
 楼主| 发表于 2022-5-5 09:49:09 | 显示全部楼层


unix_amr 发表于 2022-4-27 03:10
can you share this PDK?


不好意思，这个是公司内部的数据，无法拷出来
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Michael2023
发表于 2024-1-3 22:13:37 | 显示全部楼层
楼主能share一下T28 PDK吗？谢谢
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