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[求助] 【拉扎维】书中关于饱和区的一些近似推导(沟道长度调制)

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发表于 2021-12-26 17:01:30 | 显示全部楼层 |阅读模式

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拉扎维《模拟CMOS集成电路设计》中很多推导都用到了近似λVDS<<1,相当于假定ΔL/L<<1,例如在小信号模型中关于D,S之间电阻ro的推导,式2.48。也就是沟道夹断长度远远小于沟道长度,相当于是临界饱和区。这样的结论不能够适用于VDS>过阈值电压的情况吧,感觉没有普适性。是不是我理解有问题。感谢各位帮忙解答。
发表于 2021-12-26 22:08:29 | 显示全部楼层
I think that when VDS increases, delta L will increase slightly. Even if VDS>VOD, the assumption holds.
发表于 2021-12-26 23:59:26 来自手机 | 显示全部楼层
是的,你可以用pn结耗尽区宽度的公式当作德尔塔L的公式带进去计算沟道电阻ro,得到的ro是随vds增加而增加的
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