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查看: 10631|回复: 23

[讨论] mismatch不是和版图有关吗,为什么前仿真可以做mismatch仿真?

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发表于 2021-5-5 10:26:54 | 显示全部楼层 |阅读模式

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有些工艺提供了mismatch库,可以在前仿真就进行mismatch评估。

但是我想,mismatch不是和版图布局有关吗?我前仿真仿完mismatch,但加入由于时间和水平限制,后面版图画的不是很好,岂不是前仿真没有任何参照意义了嘛?

还是说mismatch仿真需要结合后仿真,只是我的设置没有配置正确呢?

请各位前辈指点,感谢!


发表于 2021-5-5 11:31:40 | 显示全部楼层
good question。
一般 认为 mismatch仿真数据 不基于优化的 版图 提供的 偏差值。
如果你版图上做好严格匹配画法,应该实际mismatch会比仿真的要小。
用mismatch仿真结果作为 最坏情况去考虑。
发表于 2021-5-5 13:36:05 | 显示全部楼层
个人觉得mismatch分为随机失配和系统失配;
随机失配是由于微观随机物理机制产生的, 即使两个版图完美匹配的器件也存在随机性失配; 比如两个版图完全匹配的电容A与B, 其容值会有随机偏差; 如果测量多个这样的匹配器件, A和B各自的平均电容值应该接近一致; 随机性失配与器件面积有关.
系统失配是由于版图不够匹配造成的固定失配, 比如MOS朝向不同Vth应该会有一定偏差. 测量多次, A与B各自的Vth平均值也会存在偏差.
工艺模型中的mismatch数据通常是工艺厂在版图完美匹配的情况测量的随机性失配数据, 所以前仿真可以检查随机性失配, 其结果应该是最优的结果.
后仿真会增加版图的走线寄生参数, 如果是BSIM4的MOS还会有LDE相关的参数(比如LOD, WPE), 如果由于版图不够完美造成这些参数不匹配, 则后仿真可以看到系统失配. 对于版图抽取无法反映或者模型中无法仿真的差别(比如器件朝向不同带来的系统失配), 只能靠手工检查.

点评

其他不谈,系统失配的理解完全错误。。。回去看sansen书去,说的很明白。  发表于 2021-5-5 17:20
 楼主| 发表于 2021-5-5 17:29:34 | 显示全部楼层


虎大王 发表于 2021-5-5 11:31
good question。
一般 认为 mismatch仿真数据 不基于优化的 版图 提供的 偏差值。
如果你版图上做好严格匹 ...


以高斯分布为例,系统失配相当于μ带来的影响,随机失配相当于σ带来的影响。这样理解正确吗?

 楼主| 发表于 2021-5-5 17:30:59 | 显示全部楼层
本帖最后由 CWBBest 于 2021-5-6 09:39 编辑


david_reg 发表于 2021-5-5 13:36
个人觉得mismatch分为随机失配和系统失配;
随机失配是由于微观随机物理机制产生的, 即使两个版图完美匹配 ...


感谢回复。

您的观点似乎和2楼完全相反。待我想办法仿真实验一下。之后会把结果补充在这一层,敬请留意。

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仿真补充在9楼。

发表于 2021-5-5 17:48:43 | 显示全部楼层


CWBBest 发表于 2021-5-5 17:30
感谢回复。

您的观点似乎和2楼完全相反。待我想办法仿真实验一下。之后会把结果补充在这一层,敬请留意 ...


看书有那么难吗?? 系统失配指的是即使电路器件物理上没有任何差异,但电学上不可能完全一样导致的偏差。
比如电流镜,VDS不一样导致的偏差。

 楼主| 发表于 2021-5-5 18:20:26 | 显示全部楼层
本帖最后由 CWBBest 于 2021-5-5 18:23 编辑


虎大王 发表于 2021-5-5 17:48
看书有那么难吗?? 系统失配指的是即使电路器件物理上没有任何差异,但电学上不可能完全一样导致的偏差 ...


继续您2楼回复的讨论。

假设我版图绘制的时候将电流镜的一个管子放在管芯的左下角,另一个放在管芯的右上角,这时候诸如梯度导致的失配在mismatch文件里也会涵盖吗?


 楼主| 发表于 2021-5-5 18:21:59 | 显示全部楼层


虎大王 发表于 2021-5-5 17:48
看书有那么难吗?? 系统失配指的是即使电路器件物理上没有任何差异,但电学上不可能完全一样导致的偏差 ...


书自然是看了的,而且我也没说您说的是错误的。亦或是您没看清楚用户回复错了?
 楼主| 发表于 2021-5-5 21:36:12 | 显示全部楼层
本帖最后由 CWBBest 于 2021-5-6 09:53 编辑

搭建了一个简易的电路进行一下实验,如下图。

图片.png

M2的为两个M17并联。如果两个管子条件完全相同,应该:

IM2-2*IM17=0

设置两VDS相同,在ADE XL中进行mismatch仿真,得到

μ ≈ 0

图片.png

设置两VDS不同,再进行VDS仿真(点数没有取那么多了,没必要),得到

μ ≈ 13.23u

图片.png

我认为能导致μ偏差的均可以称作系统误差。

 楼主| 发表于 2021-5-5 21:42:16 | 显示全部楼层


虎大王 发表于 2021-5-5 17:48
看书有那么难吗?? 系统失配指的是即使电路器件物理上没有任何差异,但电学上不可能完全一样导致的偏差 ...


为了确认我又去看了一下Sansen的第15章,里面好像没有“系统失配指的是即使电路器件物理上没有任何差异,但电学上不可能完全一样导致的偏差”这一定义吧。

对VDS对电流镜的影响出现在1523,但Sansen说这只是其中一个系统误差源。例如1535的热梯度、3楼前辈说的器件方向。这对于同一设计来说都算是系统误差吧。因为他们对于同一设计同一生产环境,测量1000遍,值总是不变的。这在匹配场景当中就是差值的分布函数均值会偏离0。随机失配影响分布函数散布的多宽多大,即σ。

也有可能是我看书不仔细,如有错误还请指出。

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