MOSFET的工艺偏差

凉城往事少年梦 · 发表于 2020-4-24 19:52:12

MOSFET栅氧化层长度，厚度工艺波动一般是正态分布吗，方差如何确定？离子注入剂量，能量工艺波动符合何种分布？

phoenixson · 发表于 2020-4-25 08:49:28

对于直接工艺偏差，包括各种尺寸，浓度，这些都符合正态分布，对于间接导致的偏差，这个需要具体分析

凉城往事少年梦 · 发表于 2020-4-25 09:49:23

phoenixson 发表于 2020-4-25 08:49
对于直接工艺偏差，包括各种尺寸，浓度，这些都符合正态分布，对于间接导致的偏差，这个需要具体分析
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再请教一下，啥是直接啥是间接？光看直接的话，它的三西格玛区间有什么标准的限制吗，比如10%？

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