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[求助] 加了DNW以后lvs总有错

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发表于 2019-11-13 13:51:24 | 显示全部楼层 |阅读模式

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NG)HNO23S5W~GH5S]PIZ342.png 整个就是一个NOR电路,里面一圈pwell ring ,最外面一圈nwell ring
1OSPSZ{@GO1P5Y`~{4KTV`N.png 最外侧连接如图所示,DNW已经用NW包起来了,这种画法在smic工艺也没有遇到lvs问题,但是这个towerjazz就有一下错误。二极管错误和衬底错误,究竟应该怎么画呢?
]QT]Y7@}_X5YD$)FNMVJO(C.png


补充内容 (2019-12-12 12:55):
已经解决了,看PDK后版图画上了一层DNW lvs,又在原理图上加了寄生提出来的二极管。
MV]QN02Z)@298}]`1@`Z29D.png
发表于 2019-11-13 17:32:42 | 显示全部楼层
Fab不同,还是看看design rule关于器件的定义吧。尤其是N_ISO。
发表于 2019-11-13 22:54:27 | 显示全部楼层
多看看工艺文件
发表于 2019-11-14 09:43:01 | 显示全部楼层
这是寄生的二极管,这个工艺检查的比较严格,可以在电路里面添加这个寄生二极管,解决LVS问题
发表于 2019-11-14 10:00:24 | 显示全部楼层
DNW将衬底分割为两个,DNW里面的地(pwell ring已经接上),DNW外面的地(没有衬底接触,未接上所以报错)
发表于 2019-11-14 18:05:28 | 显示全部楼层
你把NMOS管画在DNW上,LVS里没识别为N_ISO。你得看看工厂的DR文件或LVS文件里对N_iso是怎么定义来的,可能还有其他识别层
发表于 2019-12-9 10:22:51 | 显示全部楼层
寄生二极管,需要再电路中加上,或者屏蔽
发表于 2019-12-10 09:34:36 | 显示全部楼层
跟工艺有关,具体可以看LVS的rule,有的rule是会提取这个寄生二极管的,这时候需要在CDL里加上这部分才可以通过LVS检查
发表于 2019-12-10 16:53:14 | 显示全部楼层
DNW上面有没有盖DNWRES啊,SMIC有的工艺需要加这一层,不然所有DNW的MOS,都认不到
发表于 2019-12-10 16:58:24 | 显示全部楼层
NAND上面原来不带DNW,如果你加上了,也可能不认,把NAND上面的DNWres层切掉,但DNW保留,试试
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