在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
查看: 2949|回复: 6

[求助] VDMOS

[复制链接]
发表于 2019-6-19 20:31:06 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
VDMOS,硅刻蚀后做metal sputter(Al Si Cu),在孔的侧壁会析出硅,为什么?求助论坛大佬。

发表于 2019-6-20 13:44:37 | 显示全部楼层
一般认为是ALSICU Sputter 后,在蚀刻做成线条后才出现SI残留,因为蚀刻气体无法吃掉SI,这种叫硅渣。你这个反了吗?还是本身SI蚀刻就有残留?
 楼主| 发表于 2019-6-21 13:22:24 | 显示全部楼层
刻蚀硅,之后再上边淀积铝,淀积完了发现硅的侧壁拐角处析出了硅。并不是硅的残留,而是因为做metal sputter在孔处析出了硅。
发表于 2019-7-22 13:21:26 | 显示全部楼层
学习了
发表于 2020-1-8 17:10:57 来自手机 | 显示全部楼层
想多学习下,你cont是全干刻的侧壁指氧化层还是有做trench的侧壁
发表于 2020-1-8 17:12:53 来自手机 | 显示全部楼层
al sputter工艺机台确定没异常?
发表于 2020-4-26 16:05:34 | 显示全部楼层
跟Al和Si的互溶系数相关,属于正常现象,看你用什么方法解决
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /1 下一条

×

小黑屋| 手机版| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-11-15 12:06 , Processed in 0.020575 second(s), 8 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表