15925| 33
|
[讨论] 28nm制程的版图技巧有哪些 |
发表于 2018-12-29 14:22:17
|
显示全部楼层
点评
到28nm的话应该是低压管方向必须要保持一致,高压管没有方向要求,IO部分的ESD是PDK是给到了V或者H两种选择的cell
| ||
|
||
发表于 2019-1-29 08:44:10
|
显示全部楼层
| ||
发表于 2019-1-29 10:12:58
|
显示全部楼层
| ||
发表于 2019-2-2 17:38:02
|
显示全部楼层
点评
poly电阻的finger之间是带od dummy的,是满足density要求的
| ||
发表于 2019-4-10 09:27:15
|
显示全部楼层
| ||
发表于 2019-12-29 21:01:27
|
显示全部楼层
| ||