关于cadence的电源完整性分析工具voltus

7OD · 发表于 2018-7-24 18:29:36

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芯片级电源完整性的分析。主要工具:1、cadence的voltus(pvs/calibre lvs→QRC→spectre simulation→voltus-Fi-L/XL)    EMIR分析。
               2、redhawk
               3、ICC,Innovus所集成的签核工具。ICC中的前期使用的PNA分析电源网络的压降。

目前主要学习使用cadence的voltus，在论坛中看到很多需要功耗分析，voltus只需要一个仿真，而且说是瞬态或者直流仿真都可以来分析EMIR，是否准确呢？是否应该以后仿真波形与前仿真一致做为仿真评定标准？为何QRC提取的萃取视图后仿真波形差异太大？这些UG中没有讨论的问题，各位遇到过没有，都是怎么理解的呢？

firewolf223 · 发表于 2018-7-24 18:58:18

voltus 和 redhawk是两家的工具，基本上以redhawk 和 totem 为gold tool，他们只是EM、和IRdrop的 analysis，不能作为仿真结果，而且会随着你自己给的life time和温度high light 不同的结果。
他们会用到RC extraction的结果，但不全是，电源网络的R值是工具自带的算法计算的。
前后仿差异大很正常，原因很多，不一定是RC影响，也有可能是一些layout 的临近效应

7OD · 发表于 2018-7-24 20:18:33

本帖最后由 7OD 于 2018-7-24 20:19 编辑

回复 2# firewolf223
谢谢回复！你说的redhawk我还没具体学习如何使用，但是听说需要一个配置文件gsr，等有空学习。目前学voltus主要是C家提供了一个lab，按其教程是用QRC提取了一个萃取视图，然后用此萃取视图做后仿真，后仿真结果导入voltus进行analysis EMIR，流程是跑通了，但是如何确认得到的结果正确且有参考性呢？窃以为应该以后仿真结果是否和前仿真结果相近来判断，所以我看到萃取视图后仿真与前仿波形差异太大就很疑惑，而且其voltus-Fi-L/XL的使用也不一样。C家的voltus-Fi-L/XL到底如何？而且我在QRC提取萃取视图时有一个电阻的parameter和property不一样，parameter是pdk里面的layout值，property才是设计值，我怀疑是此差异引起后仿真结果偏差过大，有人说可能设置或者规则文件引起的，变化了很多设置没有改善。不知道是不是思考方向有问题。望指教一二，不胜感激！

firewolf223 · 发表于 2018-7-25 08:49:54

回复 3# 7OD

lab 你可以try flow ，但是具体的需要fab 给你提供相应的EM techfile 才行。另外，voltus 对应数字电路，它不包含device information 应该是从M1 开始的simulation的
voltus -fi 对应的是模拟电路，包含了FEOL information，可以从device level 开始simulation
所以这两套flow有点不一样。如果你的chip 是数模混合，那就更麻烦了。看你是数字为主还是模拟为主，这两个tool 要套起来用。
voltus 对应的是redhawk ，voltus fi 对应的是totem

7OD · 发表于 2018-7-25 13:28:05

本帖最后由 7OD 于 2018-7-25 13:29 编辑

回复 4# firewolf223

哦，我用的是voltus-fi对一个模拟模块进行EMIR分析，你所说的voltus因该是集成在C家的innovus里面吧？关于数模混合芯片的PI分析，你说的联合使用voltus和voltus-fi是指的分模块分析还是对整个数模混合芯片进行分析呢？另redhawk和totem的联合使用有没有什么文献介绍，你在使用此两种工具时会分别进行动态和静态的EMIR分析吗？论坛里看到说一般进行静态分析，小尺寸的才动态分析，动态分析还需要VCD文件什么的。
现在最疑惑的是对于用需要后仿真结果文件的voltus-fi来说我们应该以什么为基准来确定所得结果具有参考性呢？

SOMANY · 发表于 2018-7-25 16:09:13

回复 5# 7OD
您好，我也在进行IR/EM的仿真，但是在分析eM的时候有个emDataFile.txt文件找不到，不知道在哪有，是工艺厂提供的？谢谢！

7OD · 发表于 2018-7-25 16:18:03

回复 6# SOMANY

嗯，是的，这个文件由fab提供，兄台对我此贴提出的这些疑惑有什么见解可以大家讨论讨论

firewolf223 · 发表于 2018-7-26 10:13:04

回复 5# 7OD

我觉得你把问题搞在一起了，EM是用到了RC的结果，但是你觉得仿真出来有问题，不是很相信。想找个参考。这个我只能说你拿到fab提供的techfile 你就得相信他的结果啊。前后仿的差异并不是voltus 带来的，你可能觉得差异大，这个需要去调整layout，因为你不能改RC的 techfile 这个是fab 提供的。
所以对voltus 来说一样啊，你出来的结果就按照这个调整layout继续fix 你的结果啊。
你就把他想象成DRC，报出来的error你就直接改了，你会怀疑这个结果的正确性么？

7OD · 发表于 2018-8-8 14:38:21

回复 8# firewolf223

哦，明白了，谢谢

SOMANY · 发表于 2018-8-10 16:45:07

回复 1# 7OD

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