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楼主: 2008ql

[求助] bandgap测试结果离散性很大,请各位大神支招

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发表于 2017-2-4 10:45:22 | 显示全部楼层
sorry,没注意到高压没有蒙特卡洛模型。。
高压器件的匹配是不太好的。bandgap离散大有可能是这样造成的。
可以考虑用高压做一个粗糙的低压电源,在这个电源上用低压器件做bandgap。
发表于 2017-2-4 11:08:17 | 显示全部楼层



55nm 的高压MOS 耐多高压?
还是这是BCD ?


   

你电路
bandgap

TRIM 后还分布很大吗??


1.
一般
offset 多来自mos match , vth offset ..高压mos
40v offset 就几百mv



高压PMOS 串低压 pmos ,. 一般如果
40v vgs
oxide 1000A , offset 很大都须要使用 5V Pmos 改善,

但是 5v pmos well要隔好



2.
Nmos部分先看是否有
isubmodel , vds高到某些地方
substrate current , 还有一般
cascade使用q5 q4 都跟NMOS同一个你怎会 Q5一组Q4一组?
你有10V 电压没要求低电压动下, 2 nmos 拉高 psrr 还可以

3.
Start up 你应该简化吧?
一般都会确定VBG 起来后才真的关掉 start up 如果单靠 RC 不是很靠普的 .

4.
Mos L 得大才会 match 好一般
L > 8~10um

发表于 2017-2-4 15:49:07 | 显示全部楼层
请问55nm工艺如何可以玩高压输入阿?好好奇
发表于 2017-2-4 21:54:02 | 显示全部楼层


请问55nm工艺如何可以玩高压输入阿?好好奇
xiaowanzi88 发表于 2017-2-4 15:49




    google find
UMC  55nm 1.2V 6V ±16V

HLMC's 55nm high voltage process
 楼主| 发表于 2017-4-11 16:42:51 | 显示全部楼层
多谢各位的解答,目前bg改成中压方案,mc好多了。
发表于 2024-5-4 21:07:33 | 显示全部楼层
for BCD design

rail-rail LDMOS OPA design


p-input pair : 5v pmos  + cascode ldpmos .
ldpmos gate =36-5v =31v


n-input pair : ldnmos + 5v nmos ,  ldnmos gate use 5v clamp



bcd design , ldpmos usually zener diode clamp .
some use zener + ldnmos for simple clamp voltage  (not capless LDO ..)  



发表于 2024-5-5 18:28:34 | 显示全部楼层


grfly 发表于 2017-1-15 16:30
Hi, 我是KK;
从你的电路架构来看,左边产生IPTAT电流(Vt*lnN)/R2,右边产生CTAT电流(VBE/R1),然后两路电流 ...


请问为什么"share NWELL的方式来画,bipolar的beta值会发生变化?",另外想请教一下beta值变化的影响是不是导致VBE不准?
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