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[求助] mask制作过程问题

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发表于 2016-10-29 15:03:10 | 显示全部楼层 |阅读模式

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在mask制作时,via会比我们所画的版图对应的via会大一些,为什么要这样做呢?
发表于 2016-12-14 09:06:18 | 显示全部楼层
工艺误差吧
发表于 2016-12-15 10:41:47 | 显示全部楼层
大多少?,mask制作的时候有个公式的,你自己可以算算是不是一样的,一样的就没有问题

回复 1# 784289492
发表于 2016-12-16 20:31:28 | 显示全部楼层
回复 1# 784289492
主要就是刻蚀的偏差,还有一些光学效应,导致最后做出来的图形与版图上的不一致,需要通过OPC光学修正,效果就是mask会与你画的版图有些偏差
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