MPW各家不同metal层数之间的影响？

piaox

我最近也遇到一个问题，在MPW时各家有不同metal层数，我们的metal层数少于别家的，我们5层metal，别家8层。这牵涉到一个top metal 厚度的问题，和顶层metal  到次顶层 metal 的 via 深度的问题，这是我的困惑，能帮我解答下吗？

pph_cq

我有点明白了，A是5层，B是8层，A的top metal应该和B的M8在同一块mask上，为了不影响B,所以A区域的M5,M6,M7是dummy，实际上A不会用到M5,6,7，所以不会对A有影响。

melody027

@yanpflove   您能帮忙看看回复下吗？谢谢

真诚的小鲸鱼

我也是想要的

melody027

你好！这个疑问已经解开了吗？
               1.请问下那这个dummy pattern，我们实际上会生产出来吗？

               2.我们的topvia深度是不是要比另外一家深？

Tdc0001

问题不大，下的同一批lot PIE会给不同客户的wafer做好split table的，就比如到后段了，MIM不同 ，金属层不同，TM不同都会考量好的，只是这样你的wafer上其他客户的die就是废的了

melody027

tiamo1222 发表于 2016-8-29 19:38
MPW是说多家共用一套mask，而不是一片wafer。mask只需要保证自己所有的层次是对的就ok。
最终流片的时候只 ...

@tiamo1222 你好！
               1.请问下那这个到dummy pattern，我们实际上会生产出来吗？

               2.我们的topvia总选深度是不是要比另外一家深？

tuohong

说白点儿就是工艺不同的时候，做你的时候把别人家作废掉了，做别人家的时候把你的作废掉了。

floraysu

看了回复，还是没明白怎么回事

tiamo1222

MPW是说多家共用一套mask，而不是一片wafer。mask只需要保证自己所有的层次是对的就ok。
最终流片的时候只需要选择特定客户对应的mask去做光罩就好了，当然每一片wafer上必然包含其他家客户的部分数据，如果是不同的metal/topmetal/option就废弃，如果可以共用，则一起划片。
至于lz所想的问题，根本不存在。
不可能是metal4以上，别家metal567长上去，你这边是空白，最终topmetal两家一起wafer out。如果是metal8的flow，你metal567没有数据还会有dummy填充不然不利于别人flow中工艺控制。如果是你metal5的flow，metal4以上直接topmetal，其他家数据部分直接放弃。