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如题如图如附件
生成MOS SD metal脚本_byZhangYanhe.rar
(61.9 KB, 下载次数: 785 )
hiSetBindKey("Layout" "<Key>1" "genLayer()") hiSetBindKey("Layout" "Shift<Key>1" "layerSetToGen()") load("genLayer.ile" "ZhangYanhe") 本程序的功能是选中一个或多个inst,生成的inst内部包含的layer(如mos的SD端的metal)。 第一次使用: 1、
摁键Shift + 1(运行layerSetToGen()),弹出如下窗口,设置与工艺相关的层信息。 窗口说明 M1框:生成的第一种Layer objNo:inst(普通非pcell)内部包含的该Layer的数量不能超过的数目(可无视) Second Layer to Gen:生成的第二种Layer,使用情况不多(为了把metal和poly一起生成) To Set Width:设定第一种Layer的Width,默认不勾选是是与inst下的Layer大小一致,勾选后可调整宽度(宽度是指短的那边),此处的用法是默认的SD宽度比VIA1的metal1的宽度要小,此时勾选此选项,将VIA1的metal1宽度填上即可 Author:是作者信息 2、
选中要操作的inst,摁键1,生成要生成的Layer 后续的使用如果设置不变的话,直接从2步骤开始。如果需要修改设置,需要从1步骤开始。 |