如SILVACO下程序中 为什么我的输入特性曲线与正常的BJT不同 求各位大神解决

521gains

如下程序中 为什么我的输入特性曲线与正常的BJT不同   求各位大神解决


go athena

line x  location=0.0   spacing=0.08
line x  location=0.5   spacing=0.05
line x  location=0.7  spacing=0.05
line x  location=1.2  spacing=0.08
line x  location=2.0   spacing=0.18
#
line y  location=0.0   spacing=0.01
line y  location=0.1   spacing=0.02
line y  location=0.5   spacing=0.05
line y  location=0.8   spacing=0.15

#substrate
init silicon c.phos=2e19
diffus time=60 temp=1000  press=1

#collector
epitaxy thick=0.5 time=10 temp=1000 divis=10 ydy=0.05 dy=0.02 min.dy=0.01 c.phos=3e17

#base
deposit sige thick=0.04 divis=8 ydy=0.01 dy=0.02 c.boron=5e18

#emitter
deposit silicon thick=0.07  divis=10 ydy=0.02 dy=0.02 c.phos=1e19


#etch emitter
etch silicon start x=0   y=-0.61
etch         cont  x=0   y=-0.54
etch         cont  x=1.5 y=-0.54
etch         done  x=1.5 y=-0.61

#etch base
etch sige start x=0 y=-0.54
etch      cont  x=0 y=-0.5
etch      cont  x=1 y=-0.5
etch      done  x=1 y=-0.54

#etch collector
etch silicon   start x=0 y=-0.5
etch           cont  x=0 y=0
etch           cont  x=1 y=0
etch           done  x=1 y=-0.5

#etch oxide
deposit oxide thick=0.8 division=4

etch oxide start x=0.4 y=-1.4
etch       cont  x=0.4 y=0
etch       cont  x=0.6 y=0
etch       done  x=0.6 y=-1.4

etch oxide start x=0   y=-1.4
etch       cont  x=0   y=-0.4
etch       cont  x=0.8 y=-0.4
etch       done  x=0.8 y=-1.4

etch oxide start x=1.15   y=-1.4
etch       cont  x=1.15   y=-0.54
etch       cont  x=1.35   y=-0.54
etch       done  x=1.35   y=-1.4

etch oxide start x=0.8     y=-1.4
etch       cont  x=0.8     y=-0.8
etch       cont  x=1.4     y=-0.8
etch       done  x=1.4     y=-1.4

etch oxide start x=1.4   y=-1.4
etch       cont  x=1.4   y=-1
etch       cont  x=2     y=-1.4
etch       done  x=2     y=-1

etch oxide start x=1.9   y=-1.1
etch       cont  x=1.9   y=-0.6
etch       cont  x=2.0    y=-0.6
etch       done  x=2.0    y=-1.1

#etch aluminum
deposit aluminum  thickness=1.2 division=10
etch aluminum start x=0      y=-2.2
etch          cont  x=0      y=-1.2
etch          cont  x=2.0    y=-1.2
etch          done  x=2.0    y=-2.2

etch aluminum start x=0      y=-1.2
etch          cont  x=0      y=-0.5
etch          cont  x=0.8    y=-0.5
etch          done  x=0.8    y=-1.2

etch aluminum start x=0      y=-0.5
etch          cont  x=0      y=-0.4
etch          cont  x=0.3    y=-0.4
etch          done  x=0.3    y=-0.5

etch aluminum start x=0.7      y=-0.5
etch          cont  x=0.7      y=-0.4
etch          cont  x=0.8      y=-0.4
etch          done  x=0.8      y=-0.5

etch aluminum start x=0.8      y=-1.2
etch          cont  x=0.8      y=-1
etch          cont  x=1.8      y=-1
etch          done  x=1.8      y=-1.2

etch aluminum start x=0.8      y=-1
etch          cont  x=0.8      y=-0.8
etch          cont  x=1.0      y=-0.8
etch          done  x=1.0      y=-1

etch aluminum start x=1        y=-1
etch          cont  x=1        y=-0.9
etch          cont  x=1.4      y=-0.9
etch          done  x=1.4      y=-1

electrode name=emitter    x=2.0
electrode name=collector       x=0.5
electrode name=base  x=1.1
electrode name=substrate  backside

structure mirror right

structure outf=hbt1.str


go devedit

base.mesh height=0.1 width=0.125
#
bound.cond max.slope=28 max.ratio=300 rnd.unit=0.003 line.straightening=1 \

   align.points when=automatic
#
constr.mesh max.angle=90 max.ratio=200 max.height=1 \

    max.width=1 min.height=0.0001 min.width=0.0001
Mesh Mode=MeshBuild
structure outf=00.str

refine mode=y  x1=1.5 y1=-0.61 x2=2.5 y2=-0.53
refine mode=y  x1=1.0 y1=-0.54 x2=3.0 y2=-0.49

structure outf=00.str


go atlas
solve init
impact selb
output con.band val.band
solve  vcollector=0.0 vstep=0.02 name=collector vfinal=2.0

output con.band val.band
method  newton trap maxtrap=20

log outfile=ying.log master
solve vbase=0.0 vstep=0.02 name=base vfinal=2.0

tonyplot  ying.log
quit

newrfdesign

Thanks for sharing.