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[讨论] 工艺转换问题

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发表于 2015-5-22 14:14:19 | 显示全部楼层 |阅读模式

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通过layermap进行工艺转换,map文件怎么写?比如说从tsmc转到smic,
tsmc  OD  2  0
smic  AA   4  0
那么map文件该写成OD  4  0还是AA  2  0  ,还是两种都可以?
发表于 2015-5-22 14:26:15 | 显示全部楼层
真心建议一句,这个别问,就试一下就好,会记得牢牢的
 楼主| 发表于 2015-5-22 16:39:13 | 显示全部楼层
回复 2# tuohong


    确实是这样,谢谢了
发表于 2015-5-22 23:02:28 | 显示全部楼层
回复 1# forever'


   layermap进行工艺转换  是个什么意思呢或者说是个啥概念?求指点。
发表于 2015-5-23 07:13:38 | 显示全部楼层
OD是哪一层啊?
发表于 2015-5-23 12:16:42 | 显示全部楼层
就是有源区,tsmc的叫法。跟smic的AA是一个意思。
发表于 2015-5-24 02:34:09 | 显示全部楼层
希望楼主能够详细分享一下工艺转换的相关技术问题
 楼主| 发表于 2015-5-25 09:40:36 | 显示全部楼层
回复 4# leo2leo


    用smic的工艺完成了版图,如果又要求用tsmc的工艺流片,那工艺相差不大的话就直接通过layermap把版图GDS导出导入,就能得到tsmc工艺下的版图
发表于 2015-5-25 09:43:14 | 显示全部楼层
回复 8# forever'


   请教一下“layermap”是个工具吗?我没用过。或者是用IC5141 的CIW里的EXPORT出旧图GDS,再到新库去IMPORT那个GDS?
发表于 2015-5-25 11:58:54 | 显示全部楼层
是不是得两种工艺要基本一致,包括DRC,不然改了layermap,得到的版图也不符合设计规则。
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