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[讨论] MM ESD 正負pulse 兩者失效之關聯性

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发表于 2014-9-3 10:44:49 | 显示全部楼层 |阅读模式

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想請教各位一個問題:

1. 做MM ESD "VDD-VSS"測試時,是否有遇過 "VDD(-) to VSS" fail 之經驗。
   
以目前遇到的例子為0.13um 1.2V之元件fail,而若"esd protection circuit"已經使用diode,則在負緣測試時,此diode為順偏,理應約0.7V即可導通,無法理解會無法保護內部電路之原因?

2. 另外同時有個現象,所有fail之 VDD-VSS pin,皆為(+)(-) 同時fail,這樣的現象是否有助於判斷結果與原因呢? 謝謝。

yuray12
发表于 2014-9-3 11:36:28 | 显示全部楼层
在BCD工艺里遇到过 1。你的这颗芯片的VDD-VSS之间有什么器件? 在MM多少V死掉的?
 楼主| 发表于 2014-9-3 12:09:43 | 显示全部楼层



process: CMOS
MM200V fail
VDD-VSS間有 GCNMOS --> rc+delay cell+nmos
发表于 2014-9-16 15:18:57 | 显示全部楼层
1) 目标是过多少V?
2) 死的芯片有做FA吗? 是死在内部电路还是你的clamp?
3) 单独打VDD和VSS是不是就200V死了? 你这个clamp是自己做的还是fab给你提供的?
 楼主| 发表于 2014-9-17 09:45:20 | 显示全部楼层


1) 目标是过多少V?
2) 死的芯片有做FA吗? 是死在内部电路还是你的clamp?
3) 单独打VDD和VSS是不是就200V死 ...
libinphy 发表于 2014-9-16 15:18




   感謝回覆。ESD cell是fab提供的,spec是有過MM200V & CDM500V
1. MM目標是+/-200v,CDM則是+/-500V
2. FA結果是在內部電路,Clamp 都沒事。
3. 各種模式都有完整打過,僅有死在VDD-VSS(+/-)
发表于 2014-9-17 18:17:19 | 显示全部楼层
可將failed的sample去做FA, 像是用EMMI做亮點測試, 看fail的位置在哪, 會否有電路不正常串接的reliability issue或者將foundry提共的pad乘二, 並double bound.
 楼主| 发表于 2014-9-18 00:22:05 | 显示全部楼层


可將failed的sample去做FA, 像是用EMMI做亮點測試, 看fail的位置在哪, 會否有電路不正常串接的reliability  ...
clement1105 发表于 2014-9-17 18:17



因為是multi-power domain,所以其中有pad多 pad少,bond-wire多或少,皆fail,因此應該不是pad or wire 數目的問題。

請問您提到電路不正常串接的問題是什麼意思,可否進一步說明?

此外有作FA,初步發現問題出現OPamp  2nd stage 靠近vdd的pmos上,但不知如何解決。
发表于 2014-9-18 07:44:17 | 显示全部楼层
请问Chip是刚刚死在200V吗?
 楼主| 发表于 2014-9-18 10:25:34 | 显示全部楼层


请问Chip是刚刚死在200V吗?
tq0010c 发表于 2014-9-18 07:44



YES~ 有作實驗 100V, 150V, 200V~ 因此是死在200V
发表于 2014-9-18 10:26:39 | 显示全部楼层
因为MM模式测试的独特振荡电流波形吧,VDD-VSS测+200V也好,-200V也好,都要过正负向电流,所以都会打坏。所以每次有正电流从VDD流向VSS都要损坏
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