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楼主: 酱油师傅

[资料] LVS check的体会。WPE效应和STI效应。热分布问题。POWER MOS 版图注意事项。

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发表于 2015-4-23 14:48:30 | 显示全部楼层
回复 20# andy2000a


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关于画POWER MOS 版图注意事项

首先要搞清楚你画的是什么东东,如果是分立POWER MOS,现在关键的问题在元胞的设计和终端设计,需要试验,测试,不是一时半会能说的清楚。如果只是一个功率较大“巨形管”则比较好处理,当然前提是你的单位功率不要超过SI的极限。-------------------1,首先搞清楚你的功率管要驱动什么样的负载,这个尤为关键、2,而后选择合适耐压的管子,不要上电就被搞的击穿了。3,优先选择N型管,依据和功率MOSFET一样。4,在你搞清楚要驱动什么样的负载后,你应该得到了关于管子瞬态电流波形,驱动能力,灌/拉电流值等等数据。 X7 j# d% U( B) q
5,按照通用的设计来处理,保证满足上面的要求,就是那么几条,没什么好说的,一般不会出错,二般提醒下,查下手册,确定每个cont/VIAn的电流密度限制,打足够多的孔,保证无电迁移等等问题,当然METAL 的notch一定要考虑到,教训够多了。+ B" F0 U, W' I$ i
6,要注意latch up,感性负载会差生瞬态负冲击,而大的衬底注入,电源支路网络的波动,使得latch up的几率巨增。7,大尺寸的管子,要注意栅极电阻,相反导线寄生电容反倒无上大雅。尽可能充分的连接GATE端,当然如果设计中对对开关损耗,推动能力无要求,或者无精确要求,也可省略,虽然大多数POWER MOS 也只是个粗枝大叶的东西,但是还请务事先必确定这一点。。8,再考虑下G-BOUNDING ,为什么没有几十A的ASIC?1mil能走多少和封装先确认好,不行就加粗,加粗之后需考虑你的PAD够不够大,够不够远等等。5 A @4 K3 b. R# y
9,再者,就要考虑下功率,1w 以上的东东会比较烫,想做的可靠需要加散热片,当然封装也是个问题,但是怎么换算热阻,怎么算散热片的接触面积,实在忘光光了,最好参考下老工程师的设计,有几本书有讲,那个 Power Hybrid Circuit Design and Manufacture,有些介绍,但是洋文,看不太懂。正在啃,好像很硬,欢迎讨论。10,最后再再再提醒下,不要迷信仿真结果,可能有问题的节点一定要仔细考量,系统要完善,不要拿数字观点看模拟问题。



     第一步,电流能力多大,在设计中为这个大管安排了多少个PAD,及这个PAD,是什么样的,是CUP的,还是标准的。封装是什么样的。这个挺重要的,因为这个决定了你的power mos的形状。第二步,形状确定好之后,考虑每个管子的电流能力。打多少个cont/via,这个打的越多越好。最好每个管子的删两边都要用金属线引出。我画的大管一般漏端的孔到栅的距离都会是最小drc要求的两倍。而源端是按最小要求画。 第三步,就要考虑顶层metal的布线,主要考虑的是你的电流能力多大(最大的),要用几层METAL, 还要考虑一下压差的问题。

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据推测,IC的芯片温度每提高25℃失效率约增加一倍,所以要尽量降低芯片温度以降低失效率。 为防止结温过高,功率较大的管子面积要设计得足够大,而发射区有效边长仍由最大电流确定。  
在整个芯片上发热元件的布局分布要均匀,不使热量过分集中在一角。在元件的布局上,还应将容易受温度影响的元件远离发热元件布置。在必须匹配的电路中,可把对应的元件并排配置或轴对称配置,以避免光刻错位和扩散不匀。要注意电源线和地线的位置,这些布线不能太长。 加强工艺监控
版图设计时专门设计参数至最佳值。  
组微电子测试图形以利工艺监控,及时淘汰不合格产品,调整 (1)元件尺寸的选择要适当,应考虑功率密度、寄生效应、制版光刻误差、横向扩散及扩散容差等因素,Al条应覆盖欧姆接触孔并留一定余量。 (2)保证电路参数的要求:①多发射极晶体管的长脖子区不宜太长,因为太长会导 致/T下降;②避免在输出线上做扩散“地”道;⑧外延层电阻岛上接电源的欧姆接触孔要扩N’。 此外,对于CMOS集成电路,为提高其抗自锁能力,可在版图设计上采取以下措施:  
(1)合理布置电源接触孔,减小横向电流密度和横向电阻。 ①采用接衬底的环形电源线(P阱),并尽可能将衬底背面接VDD。  
②加多电源VDD和Vss接触孔,并加大接触面积。  
③对每一个接VDD的孔都要在相邻的阱中配以对应的Vss接触孔,以便加多并行的电流通路。④尽量使VDD和Vss的接触孔的长边相互平行。 ⑤接VDD的孔尽可能安排得离阱远一些。 ⑧按Vss的孔要尽可能安排在P阱的所有边上。 (2)采用伪收集极。伪收集极收集由横向PNP发射极注入的空穴,阻止了纵向NPN的基极注入,从而有效地减少了脚NP。 (3)采用保护环。保护环降低了Rw,增加了PNP的WBL,从而使夕PNP下降,但增加了面积。
(4)尽可能使P—阱和PMOS管的P’区离得远一些。例如输出级的NMOS,PMOS 放在压焊块两侧,可大大减小库NP。

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LVS check的一点体会

一些简单的经验,希望对刚刚入门的人有点启发
也许你刚刚从事LAYOUT不久,当你终于做了很多个小小的cell之后,终于完成了一个比较大的block了,于是你迫不及待的运行了DRACULA,想看看结果,找到一点成就感,可是你可能看到LVS的结果时,也许感到十分沮丧,因为那里可能有成百上千个UN-MATCH在对你微笑,而你感到茫然失措,几个错误是很有可能的,但是我会犯那么多错误吗?别担心,可能你也不过犯了几个错误而已,甚至你的版图画得没有错,原因也可能来自其他方面,LVS改错不可怕,但LVS后准确找到错误所在倒是问题的关键。& Q# Z" V0 P! \, W
下面就谈谈根据鄙人肤浅的见识所了解到的一些常见问题所在:6 p. C( m# q9 ^. e
1. Label打对了吗?5 T; D. e" V" w2 k
如果你的layout是hierarchy结构的,那么在block中会看到大量的底层cell的label,最好在command file中规定只去认最top层的label,这样才能确保不会抓错label造成误会。另外,注意label所选的layer,如果选的是TEXT,那么注意在重叠的layer上是否能被DRACULA正确的识别出该label是打在哪一层上。用Metal TEXT打label比较保险一点,因为其本身就已经针对不同的metal作了区分。相同的label出现在不同的电位节点和不同的label出现在相同的电位节点都是不被允许的。4 a6 m1 [/ ?5 x; E- b
2. Power & Ground连接得没问题吗?0 R( e1 h! }% D6 z; ^
如果LVS的结果中看到大量的错误,多得如同好莱坞战争巨作中的场面一般壮观,那么不要忙着查错,先去跑一下ERC吧,power & ground不能保证正确的话,会导致大量的错误,特别是有memory结构在电路中时错误场面更加宏大。在不仅仅有一组power & ground的chip中更要注意,这两组不要混淆。/ f4 s. Z- ?3 K3 j
3. 认真研究design rule了吗?
不仅仅是DRC时会用到design rule,LVS一样可能用到,特别是你的电路中有比较特殊的device时,比如双极型的管子,特别工艺的电阻和电容等等,其实这种问题比较容易辨别,因为类型不同嘛,认真搞清楚了design rule,就知道怎么去画这些东西了。需要注意的是poly电阻,注意定义它的layer,一定有某层dummy layer用于指定它为电阻以与poly导线相区别的,如果没有加上这样的layer很可能被认为是导线而造成short的报错。
4. 你得到的files确实可靠吗?
为什么总是有些器件类型认不到?你得有点怀疑精神了,netlist可靠吗?technology file & command file可靠吗?不要太信任这些东西,特别当你这个porject的designer同样是个刚刚上道的新手时,更要有充分的心理准备,好好检查一下netlist中器件类型的命名是否符合规范。有问题的话联系designer,让之去改。
5. 你确信自己没犯低级错误吗?& g- j* v" H9 I- o" q1 j
真的不会连错线?就算你lay版图lay了好几年也最好不要那么自信,是人都可能犯错,是错都可能有人犯。谁能保证自己永远不走神呢,也许怀念了一下故乡亲人,也许垂涎了一下美女帅哥,也许幻想了一下奔驰宝马,也许只是规划了一下晚上吃点什么……在此期间,你可能连错了一根线,用错了一个via……办法很简单,检查,找到它,改正它。' H; y: x* L9 H2 }3 O- [
6. 真的一切都很可靠吗?0 ~" E  U% @( `2 p7 Q9 _; B& Q
在你进行过大量细致的检查后还是不明白为什么犯了错误,左看右看,上看下看,怎么看也不明白,我想你开始觉得心烦意乱了吧,再这样下去,你会发怒,会随着这社会一起浮躁,会想砸东西,想打人,想上厕所,想对老板说你TMD不干了……镇静,“hold, my brother, hold”。你该喝点茶,或者脑白金,或者太太口服液,然后站起来走走,呼吸呼吸新鲜空气,等你冷静下来的时候请再回来,好好想想,到底是哪里出了问题呢?我怎么知道,自己想啦。只是有一点,有时候看似越可靠的东西,越有可能给你造成麻烦。这里说一下我自己的经历吧,也许对你有点启发。我曾经出差到另外一个城市的分公司去完成一个项目,到了那里我就开始认真的干,没少了加班,但到最后的时候,却有问题不断的出现。明明是已经通过了LVS验证的block,怎么过了段时间给老板重新验证演示的时候就不过了呢,真是郁闷阿,“你不是说已经过了吗?”面对老板和同事的质疑,我感到非常的无辜,真tmd见鬼了,如果前两天我不是在梦游的话,那么我确实亲眼看到是过了,而且这里还有保留的备份文档,我发誓不是我伪造的。在经过一系列的排除法之后,一个很偶然的发现让我终于自己找到了问题,挽回了面子。刚过来的时候,就得到了这个公司提供的一个map file,是用来供virtuoso对应layer的,或者说,是针对这个制程,让virtuoso能够正确识别每个layer的一个辅助文件,可是包括老板在内没有人注意到这里边潜在的问题,这个file里对layer number的定义与technology file中的定义不一致!导致在stream out的时候有些layer会丢失!怪不得工作中间就曾出现过莫名其妙的错误,有时能通过有时却没通过,这是因为有时我加载了map file有时我忘了加载。不加载反倒是正确的!只是当时忙得焦头烂额没注意到这样的细节问题,以为是自己不小心弄错了。所以,请你确信一切都可靠才行,有些看起来可靠的东西,可能正是出问题的地方。而如果遇到一些反常的现象也该多留心,也许这些小问题正预示着以后碰到的大麻烦,唉,我白白付出了多少个晚上的代价才得出的结论啊,本来我该用那些时间去江边赏月的……& g/ T5 E& i+ j% u
     好,基本上就想到了这些,一定有很多人有更丰富的经验和更深刻的见解!请多多指教。
发表于 2015-4-23 14:51:29 | 显示全部楼层
乱来,骗钱,封号
发表于 2015-4-29 09:14:43 | 显示全部楼层
好多文件啊 打包给我们就更好了
发表于 2015-5-6 17:51:03 | 显示全部楼层
谢楼主 分享。
发表于 2015-6-3 14:05:10 | 显示全部楼层
好资料
发表于 2015-6-4 17:26:00 | 显示全部楼层
好樣的~~~`
发表于 2015-7-30 14:01:04 | 显示全部楼层
谢谢分享
发表于 2015-8-4 10:24:49 | 显示全部楼层
thanks  a lot
发表于 2015-9-15 11:06:11 | 显示全部楼层
下来看看
发表于 2015-9-15 19:44:30 | 显示全部楼层
kankan
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