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[求助] ICC place后利用率激增

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发表于 2013-8-21 20:42:39 | 显示全部楼层 |阅读模式

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如题,用ICC 做fp placement的时候只有68%的利用率,但是place做完后利用率激增到95%左右,后面的CTS无法做下去了,求各位高手指点一下!
  个人觉得可能有以下原因:1,place中做了高扇,所以插了很多buffer,多出的近30%的大多都是buffer,这个我出.v看过。
                                    2,中间有些单元使用了固定电平,即使用了TIEH/TIEL单元作为logic_1/logic_0,不知道有没有这方面的原因?
   另外,插入的单元中还有一些是NAND 单元,这个不知道是优化的结果还是怎么回事?
   谢谢!
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