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[原创] 关于MOS管作去耦电容(decoupling cap)的问题

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发表于 2012-12-21 17:48:04 | 显示全部楼层 |阅读模式

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一般情况下mos管作decoupling电容,如果N管的话,其栅极接VDD,其余三端接GND就可以了。但是,在低压情况下,比如VDD=1.1V,就不可以这样直接接,为什么?应该怎样为低压情况加decoupling 电容?谢谢大家帮忙。
发表于 2012-12-21 20:02:51 | 显示全部楼层
“但是,在低压情况下,比如VDD=1.1V,就不可以这样直接接”这个不对吧!可以的
发表于 2012-12-21 20:15:00 | 显示全部楼层
是不是因为低压下,MOS管寄生电容变小了,decoupling效果不好,用native管可以更好点。
发表于 2012-12-21 20:31:21 | 显示全部楼层
受教了,谢谢楼主共享
发表于 2012-12-21 22:57:47 | 显示全部楼层
本帖最后由 ygchen2 于 2012-12-21 22:58 编辑



decoupling是靠寄生电容吗?好像栅电容为主吧,而且低压管单位面积栅电容应该相对于高电压管更大。
  不知应该如何理解。
发表于 2012-12-22 11:11:46 | 显示全部楼层
當然是使用gate電容,其容值與nmos的Vth高低有關,通常gate電壓大於Vth之後,容值便會逐漸呈現穩定不變!
发表于 2012-12-22 11:13:17 | 显示全部楼层
decoupling 只要使用的是VDD,都是>>Vth的所以应用起来没有问题
发表于 2012-12-22 15:31:20 | 显示全部楼层
DCAP设计里面有几个重要参数,沟道电阻R和电容. DCAP从性能角度看, R越小越好, 如果电压比较低沟道不是在线性区, 那么R就很大, 也就是说RC很大, 对于电源波动的响应就很慢, 也就起不到DCAP的作用. 所以,电压高的时候性能不错, 当电压降低了, 性能就不行了.
发表于 2012-12-22 16:53:06 | 显示全部楼层
楼主要把条件讲清,比如采用MOS的类型,Vth是多大,只要VDD>Vth,gate capacitor是满足要求的,如果VDD比较小,电容特性会较差
发表于 2012-12-22 17:28:48 | 显示全部楼层
既然使用栅氧电容,够到导通是必须的,所以栅极电压必须大于Vth。 同时,由于够到电阻的存在,整个器件模型相当于电容串联电阻,当栅极电压小的话,此值会变大,分析即可!
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