在单晶硅表面沉积二氧化衬垫的作用是什么

huhudebin · 发表于 2012-11-27 11:40:31

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特别是在硅通孔工艺中单晶硅与阻挡层之间的那层二氧化硅

iamshan · 发表于 2012-12-9 14:59:27

can you speak english? can not understand chinese words of semiconductor fabrication.
in fab, no chinese terms.

nickfury · 发表于 2012-12-12 10:50:12

你说的是PAD oxide 吧，是防止SI3N4对外延片层的应力作用。

lydh123 · 发表于 2013-8-9 10:39:07

支持一下

conradalf · 发表于 2013-8-12 09:59:40

As a stress relief buffer layer

suboya · 发表于 2013-8-14 22:31:17

学习了

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