在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
查看: 1554|回复: 3

[资料] 光刻版数据处理中的工艺涨缩问题

[复制链接]
发表于 2011-11-25 10:44:39 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
本帖最后由 hocquan 于 2011-11-28 20:39 编辑

介绍了集成电路行业中在光刻版数据处理时的工艺涨缩问题,分别讨论了正涨缩和负涨缩问
题,涨缩与反转处理的次序问题,尤其对位于版图边沿图形的涨缩进行了详细的讨论,并且提出了一种电
子设计自动化软件的解决方案和实际结果。 光刻版数据处理中的工艺涨缩问题.rar (22.79 KB, 下载次数: 12 )

相关帖子

 楼主| 发表于 2011-11-28 20:41:43 | 显示全部楼层
回复 2# waveguides

不好意思,第一次附件是一系列的代码,首次上传资料,不太懂上传规则
发表于 2011-11-28 21:25:32 | 显示全部楼层
谢谢分享
发表于 2014-1-21 00:22:48 | 显示全部楼层
PSMC公司的中文名是什么
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /2 下一条

小黑屋| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-5-13 08:01 , Processed in 0.024299 second(s), 10 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表