calibre view, post-layout simulation, 后仿真, lvs reduce parallel mos,

ericking0 · 发表于 2011-10-9 14:49:26

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用calibre+cadence进行后仿真

calibre PEX提取寄生参数
LVS通过了

并且生成了calibre view，用此view来进行后仿真
结果总是不对

查看calibre view，发现很多并联管子被重复计算了，电阻也被重复计算了

例如某电阻RR1，segment=2
那么calibre view里面就是RR1，segment=2；RR1@2，segment=2
电阻阻值多乘了一次

后来在LVS RULE文件中吧LVS REDUCE SERIES RES设置为NO
电阻的问题解决

但是并联管子重复计算的问题并没解决
例如，某MOS为MM1，finger=2
那么calibre view里面就是MM1，finger=2；MM1@2，finger=2
管子的W多乘了一次
即使我修改了LVS RULE文件中的LVS REDUCE PARALLEL MOS设置为NO，仍然无效。

请问兄弟碰到过这种问题没有啊？如何解决的呢？

ericking0 · 发表于 2011-10-11 17:16:00

本帖最后由 ericking0 于 2011-10-11 17:17 编辑

我也碰到了相同的问题

LVS过了

一个finger=4 m=1的管子，在calibre view里面变成了4个finger=4 m=1的管子
而finger=1 m=4的管子，则变成了4个finger=1 m=1的管子

此外，我的电阻也碰到了这个问题
一个segment=2的电阻，变成了两个segment=2的电阻
不过电阻的问题通过修改LVS REDUCE SERIES RES NO来搞定了(用此方法其实无法解决该问题)

但是MOS的问题修改了LVS REDUCE PARRAEL MOS NO 则搞不定

我还碰到了另外一个问题：一个8u/1u的管子，layout画成了两个4u/1u的管子
而这两个管子都变成了8u/1u

不过看管子symbol旁边显示的parameter发现同时出现了w和wf
感觉w是calibre提取出来的参数，而wf是PDK Pcell自己定义的finger的沟道宽度

故我猜测calibre无法提取finger数量参数nf，而xRC文件和LVS rule文件中都只提取的w参数
而calibre view中每个管子的其他参数估计是从schematic中套过去的

所以schematic中MM1的finger=2，m=1,的话，那么calibre就提取成了m=2，而finger由于不清楚是什么参数，所以直接从schematic中的对应管子copy了过去，

如果MM1 8u/1u的话，layout化成了两个4u/1u的，calibre提取的时候视为了两个w=4u, l=1u的管子，而PDK中cell的CDF中的wf（finger宽度），nf（finger数量）就直接套用了schematic中的8u，1。
所以就变成了两个w=4u，wf=8u，l=1u的管子，而spectre仿真的时候没有采用w而采用了wf，所以导致了错误的结果

ericking0 · 发表于 2011-10-11 17:26:44

今天做了一个试验
改变LVS REDUCE *****参数
尝试使用analogLib中的PMOS4 NMOS4来代替PDK中的symbol来建立cellmap

不出意料采用analogLib中的symbol来建立cellmap文件，所有的MOS和res中的model都留空了，没有实用性
不过发现calibre在建立calibre view的时候的确有把schematic中的器件的CDF components parameters填充到新建的calibre view中的器件的相应的components parameters。

而改变LVS REDUCE *****其实并不能改变calibre view的问题（甚至可能导致错误）

最终的解决方法就是把calibre无法提取的m（multiple） nf（number of fingers） segment（res segments）全部在calibre view setup窗口reset properites区域reset到1。