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[求助] 问两个工艺方面的问题~

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发表于 2011-9-26 20:06:46 | 显示全部楼层 |阅读模式

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1.怎样区分三种常用工艺(bipolar、CMOS、BiCMOS)?比如做反向提取时,怎样判断该芯片采用的什么工艺?(2个问题了)

2.双极工艺的基区注入、发射区注入与MOS工艺的P注入、N注入有什么区别?
发表于 2011-9-27 15:36:07 | 显示全部楼层
mos管有多晶,而bipolar这是基区发射区,其两个工艺用的隔离方法不一样。
 楼主| 发表于 2011-9-28 11:05:17 | 显示全部楼层
回复 2# mickey1999


    CMOS和BiCMOS都有多晶呢,怎么区分。双极的基区注入和发射区注入与MOS工艺的P.N注入有什么区别?
发表于 2011-10-9 09:25:35 | 显示全部楼层
CMOS工艺中只提供寄生的bipolar。BICMOS 工艺中的bipolar是需要通过增加一些层次来实现,所以一般来讲biCMOS中的bipolar特性更好。
因为bipolar的特性需求,双极的基区注入剂量较轻且比P/N较深,所以工艺上是分开进行。一般发射区注入的浓度和深度与N/P注入较为接近,在一些工厂的工艺里是一次完成的。
 楼主| 发表于 2011-10-9 11:49:49 | 显示全部楼层
回复 4# greg216


    那怎么从芯片上看出此芯片用的什么类型的工艺呢?
发表于 2011-10-14 13:00:06 | 显示全部楼层
标准CMOS工艺前道工序(不考虑高压器件、高阻和PIP电容)只有NWELL,PWELL,TO,GT,N+,P+,不能做VNPN器件。工艺中包含有源器件只有NMOS、PMOS、衬底PNP。
双极工艺就是做bipolar的,VNPN,LPNP,衬低VPNP。
BiCMOS工艺就是两种工艺的结合,可以做NMOS、PMOS、VNPN、LPNP和衬底VPNP,工艺层次就多了,成本提高了。
还有BCD工艺,在BiCMOS工艺基础上,可以做LDMOS和JFET,工艺就更复杂了。
你如果有各种工艺的Design Rule,对比一下层次就明白了。
 楼主| 发表于 2011-10-14 15:08:58 | 显示全部楼层
回复 6# CDS


    3Q,前两天刚和公司一位师兄讨论了,对这些问题也明白多了。有问题大家一起讨论,确实要明白得多。
发表于 2011-12-29 13:36:38 | 显示全部楼层
楼主的问题问的不清楚
 楼主| 发表于 2011-12-29 18:50:13 | 显示全部楼层
回复 8# jeffcui18


    哪里不清楚?
发表于 2011-12-30 22:44:39 | 显示全部楼层
新手,路过。。。暂时看不懂
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