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楼主: onlykals

[求助] BCD製程,高壓下CHIP漏電的原因?

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 楼主| 发表于 2011-7-28 09:42:38 | 显示全部楼层
大公司也許是,

不過我們小公司只能自己的RD去跟外包商 COWORK
发表于 2011-7-31 10:14:19 | 显示全部楼层
看版图
电源线和底线走过的地方是否有场馆开启
发表于 2011-8-23 14:44:13 | 显示全部楼层
xuexixuexi
发表于 2011-9-8 11:56:23 | 显示全部楼层
回复 1# onlykals


    查一下HV区内的stand alone OD是不是面积太小了。
发表于 2011-9-8 13:22:18 | 显示全部楼层
七楼提的EMMI不错.我们公司一般都用这种办法定位漏电区域的.
发表于 2011-11-17 13:15:49 | 显示全部楼层
1. design 上漏
2. parastic device ..特別是有有是 P-N junction bjt 漏 或電阻
3. layout 上  有 contact, via 和一些 rule 不對 或有 overlap
      導致 process 做時 漏
  以前 metal 間 spacer  如 process不夠好 有些會輕輕相連
照 obrich  

emi 一般是看 junction 類 漏電的 ..

4. process 上 , gate oxide 不良 .. device 不良
发表于 2011-11-27 20:27:52 | 显示全部楼层
你们说得FA部门主要负责做什么工作,我们公司貌似没有这样的部门。
发表于 2011-12-25 09:52:44 | 显示全部楼层
先检查下仿真有漏电吗?
发表于 2012-4-1 01:18:32 | 显示全部楼层
长见识了
发表于 2012-4-7 11:10:09 | 显示全部楼层
還有一類是 seal ring

一般 seal ring都會 違法rule
有些 layout會run 下面最後套上 seal ring
沒弄就 leakage 了..
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