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楼主: langxian0820

[求助] 请问N-well和Deep N-well制造上有什么区别吗?

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发表于 2024-1-24 18:25:04 | 显示全部楼层


guoaf 发表于 2023-12-5 09:01
我有疑问隔离nmos的话,底部和周围都用DNW围上不可以吗,为什么周围用nwell,底部用DNW ...


如果foundry给你的nmos器件是直接做在衬底上,你铺上DNW就改变了它的结构,但你可以给它一个dnw的gardring, 那就没有问题
发表于 2024-7-1 15:28:53 | 显示全部楼层


guoaf 发表于 2023-12-5 09:01
我有疑问隔离nmos的话,底部和周围都用DNW围上不可以吗,为什么周围用nwell,底部用DNW ...


DNW是隔离衬底的作用,惨杂比NW低,耗尽层会更宽,全用DNW惨杂会影响nmos的性能,性能取决于多种因素,集中包括惨杂浓度
发表于 2024-7-1 15:30:34 | 显示全部楼层


大江南北 发表于 2024-1-24 18:22
问下,有NW,HVNW,NBL, NBL最深,耐压最高,如果NW下面没有HVNW,有NBL,NW能连到NBL吗? 是不是连接不到 ...


NW也能连接NBL埋层,NBL是N型惨杂,具体可看标准双极型工艺结构
发表于 2024-12-13 11:30:28 | 显示全部楼层
本帖最后由 fattigerXu 于 2024-12-13 11:37 编辑


guoaf 发表于 2023-12-5 09:01
我有疑问隔离nmos的话,底部和周围都用DNW围上不可以吗,为什么周围用nwell,底部用DNW ...


也有这样的吧,我遇到有DNW像NW那样,肯定注入面积和深度比NW大和深。然后这个DNW里边会有可见的NW,也就是先做DNW再在DNW里做NW。会通过描述算法计算出PW的位置,PW里面就是咱们放的NMOS和给NMOS的衬底提供电位的PTAP。这样的工艺在一个DNW里面,最外圈是接VS的P型保护环。不同电位的DNW之间用HV_VS的P环隔开。
也有遇到的工艺里DNW就是在NW底部,DNW和NW就像组成一个盆子,DNW是盆底,NW是盆边,盆里边也可以有NW,除了NW就是不用画出来的PW,PMOS和NMOS就分别放在这NW和PW里,和上一个有点区别的就是一个DNW里面,NTAP_NW就是最外面的环,不同电位DNW之间也是要用一个电位最低的PSUB环隔开。不知道以上说的对不对,菜鸟一个

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