先進製程LOD & WPE影響類比電路設計,介紹SA,SB,SC之BSIM4參數使用說明

ku4311 · 发表于 2011-2-9 15:12:22

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在先進的CMOS製程裡，LOD (Length of Diffusion) Effect及WPE(Well Proximity Effect),
將會是影響類比電路的一個重要參數,
講義內容,介紹
1.LOD (Length of Diffusion) Effect
2.WPE(Well Proximity Effect)
3.BSIM4的SA,SB,SC參數
4.在netlist中如果使用SA,SB,SC參數
5.如何簡單的降低LOD Effect及WPE對電路的影響

WPE & LOD Effect for BSIM4.zip (331.79 KB , 下载次数: 3069 )

funny80342 · 发表于 2011-2-10 00:57:54

感恩喔

air7619 · 发表于 2011-2-10 01:17:50

thank you ~

ni3131 · 发表于 2011-2-10 16:12:17

thank you ~

pickpunk · 发表于 2011-2-10 17:17:41

台湾的资料,写得挺好

ku4311 · 发表于 2011-2-15 13:34:44

讚喔,謝謝啦~~

iyahsue · 发表于 2011-2-15 13:38:40

goooooooooooooooooooooooooood

nero007 · 发表于 2011-2-15 13:41:38

ｇｏｏｄ　ａｒｔｉｃｌｅｓ

yf.hu · 发表于 2011-2-15 19:50:26

thanks

Jason_ke · 发表于 2011-2-15 20:33:20

很好的资料,Thanks

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[资料] 先進製程LOD & WPE影響類比電路設計,介紹SA,SB,SC之BSIM4參數使用說明

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