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楼主: jason1988

[原创] 关于不同corner下的参数?

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发表于 2012-7-5 10:54:43 | 显示全部楼层
dxfx aaaaaaa
发表于 2016-3-31 18:27:31 | 显示全部楼层
感谢分享
发表于 2024-3-9 01:37:10 | 显示全部楼层
thanks
发表于 2024-3-28 11:23:41 | 显示全部楼层
也就是说,工艺角的变化,主要是掺杂浓度的改变,使得阈值电压改变吗?迁移率的改变可以忽略不计
发表于 2024-5-27 16:37:09 | 显示全部楼层


B40514066 发表于 2010-12-16 22:21
问一下FF只指什么?是FAST NMOS FAST PMOS吗?corner是不是指PVT啊,还是就是指PVT中的process? ...


PVT是指process、voltage、temperature, corner属于process
发表于 2024-10-10 14:41:24 | 显示全部楼层
提问一下,不应该衬底掺杂越大,vth越大吗?在讨论掺杂的时候,有源区和衬底要分开说吗?没学过工艺,请教一下!
发表于 2024-10-28 09:19:28 | 显示全部楼层
同问,掺杂浓度越大,衬底反型需要的阈值电压也应该越大吧
有源区我的理解是被隔离起来做器件的区域,和隔离都做在衬底上
发表于 5 小时前 | 显示全部楼层


fuyibin 发表于 2010-12-14 10:48
通常来说,对于MOSFET,参杂浓度越高,VTH越小,那么FF corner是参杂浓度偏高,SS corner是掺杂偏低
对于m ...


mobility是啥啊
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