明導協同ST推動20nm晶片技術

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稍早前，明導國際(Mentor Graphics)宣佈加入意法半導體(ST)一項名為Nano 2012 DeCADE的計劃，並表示，將共同就先進製程的SoC開發展開廣泛合作，推動晶片設計技術從32nm前進到20nm及更先進製程節點。DeCADE是一項為期三年的專案，旨在開發先進的SoC設計方案，範圍涵蓋了數位和類比設計。而針對這些複雜SoC開發所需的工具及方法學，明導國際Calibre設計解決方案行銷總監Michael Buehler-Garcia表示，將與ST就擷取、電感、LFD、微影和P&R等技術方面擴大合作。
隨著晶片製程技術逐漸過渡到45nm，晶片本身的複雜度和日益龐大的規模，使得整個設計過程從一開始就面臨著更多的不確定性，例如，隨著晶片規模擴大而增加的設計規則，都為45nm及以下製程的晶片設計添加了更多風險。
DeCADE將提供核心CMOS技術所需的設計解決方案，預計將能從根本改革晶片的設計，包括晶片規模、性能，以及開發一個系統級解決方案的成本在內。這個專案涉及的範圍還將包括射頻和無線技術，以及3D封裝和晶片堆疊等。
透過與擁有晶片設計及製造的IDM業者的合作，明導希望為45nm以下甚至到20nm製程世代的晶片設計建構一條更容易通往設計成功的道路。“與純晶圓廠相比，ST作為合作夥伴更具優勢，因為他們擁有大量的晶片開發和測試經驗，”Buehler表示。
針對這項專案，Mentor也在法國Crolles雇用了專屬工作人員，以推動該計畫的發展。 (鄧榮惠)