请教模拟设计的沟长问题

motocser · 发表于 2010-1-27 09:46:46

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本帖最后由 motocser 于 2010-1-29 10:54 编辑

看到很多书上都用2um作为模拟设计的沟长，也有人说用工艺最小沟长的2倍；
请问各位大虾各种工艺的模拟设计沟长到底应该怎么取？
比如最小沟长0.5um的工艺中，在设计模拟电路时一般沟长用多少？0.35和0.18呢？

另外小弟在看“版图的艺术”中（442页）有提到MOS的匹配问题，说到边缘效应几乎不影响2um的器件，但是1um的器件就十分明显。
小弟想问一下：这个边缘效应对mos管的匹配影响多大？书中也没有说这个经验值源于多宽的工艺，是否现在很细的工艺也都需要用2um的沟长？

小沟长的设计如果不考虑匹问题，会否另外导致仿真结果和实际结果偏差加大？

求教各位大虾~

sumig · 发表于 2010-1-27 11:54:03

需要严格匹配的管子就不能用最小尺寸，L在一定范围内越大越好，比如严格比例的电流镜和输入差分对等；匹配不严格的就没什么关系了，比如两级OPA的输出级和Cascode的共源共栅管，L用最小尺寸也没什么大问题，65nm的设计我们也这样用~

motocser · 发表于 2010-1-28 12:42:30

那么需要严格匹配的管子一般会取多大呢？比如最小沟长0.5um的工艺

grusher · 发表于 2010-1-28 16:46:50

在sansen的第一章里面有说到，主要是考虑高增益和高速度的矛盾。对于高增益，L选为最小L的4~8倍，对于高速率级，选择最小L。具体可以参考附件的解释。

motocser · 发表于 2010-1-29 11:04:39

看来这个沟长的使用真是一言难尽啊，应该是一个速度、增益、匹配程度和面积的综合考量，里面不知道要包含多少设计和留片的经验。。。感谢楼上的两位大哥的提点

我在这里还想问一下，沟长的大小是否会影响仿真的真实性呢？比如，会不会存在这样的一个情况：由于工艺固定偏差的问题，大尺寸的管子的仿真结果比小管子更接近真实值？

kyle222 · 发表于 2010-1-29 21:49:29

学习下~~~

hushuoqiu · 发表于 2010-1-30 00:50:40

abosolutely!
u can use device simulation tool to take insight into such effects, reference the following link:
http://www.ee.ic.ac.uk/fobelets/TCAD%20–%20Medici%20Simulation%20Tutorial.pdf

lsblsb · 发表于 2010-2-1 15:43:22

以前做ADC中的放大器时,虽然输入的管子为了mismatch好,L不想取的很小,但还是要取最小L.

hellolab · 发表于 2010-2-2 15:10:25

好，谢谢！

afujian · 发表于 2010-2-15 21:21:25

关注下

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