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查看: 7531|回复: 6

求教:垂直NP型二极管的N+节的节深对ESD能力

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发表于 2009-1-6 21:24:50 | 显示全部楼层 |阅读模式

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大家好,

我有个疑问是:

垂直二极管的N+的节深对NP型的二极管的ESD过电流能力有什么影响?

十分感谢
发表于 2009-1-7 09:52:47 | 显示全部楼层



据说侧壁过的电流多
电流总是找阻抗最低的通路跑的
发表于 2009-1-7 10:49:56 | 显示全部楼层
current density increases with shallow junction.
 楼主| 发表于 2009-1-8 23:09:00 | 显示全部楼层


原帖由 fuyibin 于 2009/1/7 09:52 发表


据说侧壁过的电流多
电流总是找阻抗最低的通路跑的



谢谢你的回复
我这个二极管就是一个垂直的PN结
 楼主| 发表于 2009-1-8 23:15:44 | 显示全部楼层


原帖由 duduxy 于 2009/1/7 10:49 发表
current density increases with shallow junction.



if the diode is vertical, not the latent

does the same case exist as well?
发表于 2009-1-9 09:45:48 | 显示全部楼层


原帖由 andyjackcao 于 2009-1-6 21:24 发表
大家好,

我有个疑问是:

垂直二极管的N+的节深对NP型的二极管的ESD过电流能力有什么影响?

十分感谢



能具体说一下这个NP型二极管的结构吗,是在CMOS工艺中实现的吗(N+-Pwell/Psub diode)?如果是在MOS工艺中,一般都用P+-Nwell结。不过我觉得应该会有影响吧,因为the edges contribute conductance,不过不确定。以前没考虑过,因为在CMOS工艺中结深是固定的,不能随意改,如果要改,要多一张mask多一次implant,钱啊!有条件可以用TCAD模拟一下,或是直接Tapeout看实际结果,呵呵!
 楼主| 发表于 2009-1-9 18:52:29 | 显示全部楼层


原帖由 carffy 于 2009/1/9 09:45 发表


能具体说一下这个NP型二极管的结构吗,是在CMOS工艺中实现的吗(N+-Pwell/Psub diode)?如果是在MOS工艺中,一般都用P+-Nwell结。不过我觉得应该会有影响吧,因为the edges contribute conductance,不过不确定。 ...



谢谢你的回复
现在我们准备做一个分离PN结二极管
在定义PN结二极管参数时,想定性知道PN结 结深的影响;
现在我认为,由于电流流过PN结的不均匀性,以及电流方向性,
如果PN结太浅,会造成侧向电阻过大,从而不利于散热
一点想法
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