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请加封装后电流增加的问题

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发表于 2008-9-27 15:23:52 | 显示全部楼层 |阅读模式

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各位朋友,请教一个问题,我现在有一块芯片,封装后进行final test,测试发现其他功能性能都正常,就是工作电流相比wafer test有一个较大的增加,估计增加了1倍左右(200uA到370uA左右),因为无法与CP一一对应,所以1倍来自大致感觉。
请教各位朋友,有没有遇到过类似的情况,或者请封装的高手,实效分析的高手们帮忙指点一下,看看是什么原因,该怎么解决?
以前也有网友遇到问过一次这个问题,但我没有看到后续结果,如果知道的朋友,也请帮忙解答。
发表于 2008-9-27 17:53:55 | 显示全部楼层
封装应力引起的?
 楼主| 发表于 2008-9-28 11:51:04 | 显示全部楼层
现在我也收集各方面的信息,在进行FA之前,基本也把矛头指向了封装的应力。但我想看看有没有朋友已经遇到过类似的问题,请教请教他们的分析方法和分析结果以及解决办法。
发表于 2008-9-28 13:55:50 | 显示全部楼层
bonding pad可能有micro crack,打线机打的
发表于 2008-10-24 15:18:22 | 显示全部楼层

ok

我想您所說的電流增加應該是 leakage,leakage有分很多種,Quiescent Current/Shutdown Supply Current/....等多種,他們都是在不同狀況下漏電現象,我並不清楚您的電流增加是屬於哪一項,但大體來說,依製造面來說,c/p 及 f/t 程式是否匹配?也就是說 c/p spec.是否太寬?或f/t太緊?在封裝製程中是否有 demage ic的狀況?剛剛說過,漏電流有很多種,有些會因為封裝demage的狀況出現不一樣的情況,如gate被擊穿,他所呈現出來的現象是不一樣的,依據這原理,您可以慢慢找到電流增加的源頭,如果你說的跟我說的是同ㄧ件事的話!
 楼主| 发表于 2008-10-31 18:03:31 | 显示全部楼层
我们测试的电流是指工作时候的电源电流,其中应该有正常的电流分量,也有漏电电流的成分。现在的状况是:封装后测试电流相比wafer测试变大了(注意:功能完全ok,我们所需要的spec中现在只发现电流这一项发生了变化),有些已经超过我的spec而造成yield不满足我们的要求。电流增大的原因我们不知道,但我可以确定应该不是cp/ft的spec不同引起,我们也曾经怀疑了这一点,但将封装后的芯片使用同样的cp程序和设备,同样的电路进行了测试,问题同样存在。而且电流增加的芯片还有一个奇怪的现象:我们的芯片可以工作在3~5V下,那些出现电流问题的芯片,在3V下电流正常,随着电压增加,Idd也增加,给人感觉好像打开了一个什么东西,使得增加的部分电流随电压线性(非准确说法)增加,而且增加的量不能为我们接受。虽然正常的芯片随着电压增加电流也略有增加,但增加的量在我们接受和理解的范围之内。

请朋友们帮助分析。

quote]原帖由 st1358 于 2008-10-24 15:18 发表
我想您所說的電流增加應該是 leakage,leakage有分很多種,Quiescent Current/Shutdown Supply Current/....等多種,他們都是在不同狀況下漏電現象,我並不清楚您的電流增加是屬於哪一項,但大體來說,依製造面來說,c/p 及 ... [/quote]
 楼主| 发表于 2008-10-31 18:05:15 | 显示全部楼层
对了,如果是因为gate击穿等,电路功能或其他性能也应该会发生变化。
发表于 2018-7-26 21:47:16 | 显示全部楼层
楼主您好,我最近也遇到了这个问题,芯片测试阶段静态电流和关断电流都是正常的,但是封装后测试大约有15%的电路出现电流增大现象,而电路的功能和其它参数又是合格的,实在不解,请问您后来是怎么解决的呢,能不能帮助分析一下
发表于 2018-7-27 01:04:50 | 显示全部楼层
可能性:
在测试时候PAD的ESD打坏了。。。觉得应该做一做前后的ESD耐压测试即可证明。
发表于 2020-9-28 11:36:59 | 显示全部楼层
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