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硅超大规模集成电路工艺技术--理论实践与模型 英文版
chapter1 Introduction and Historical Perspective
Chapter2 Modern CMOS Technology
Chapter3 Crystal growth, Wafer Fabrication and basic properties of silicon wafers
Chapter4 Semiconductor Manufacturing - Clean room, wafer cleaning and gettering
Chapter5 Lithograhy
Chapter6 Thermal Oxidazatuib and The Si/SiO2 interface
Chapter7 Doppant Diffusion
Chapter8 Ion implantation
Chapter9 Thin Film Deposition
Chapter10 Etching
Chapter11 Back-End Technology
[ 本帖最后由 suk.qi 于 2008-6-7 00:28 编辑 ] |
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