Berkeley IC课程 EE140 EE141 EE240 EE242 EE243 EE244 EE247 EE249 Lecture讲义

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EE141 ：Introduction to Digital Integrated Circuits
EE140 ：Linear Integrated Circuits
研究生课程

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所以整理的资料多为模拟设计的。
EE141为数字IC设计者必看的课程；
EE140为模拟IC设计的基础课程，为模拟设计者必看；
EE240主要侧重运算放大器的设计，从单元电路到模块化，是学习OPA的好课程；

EE244和EE249还没来得及学习，大家感兴趣的可以下载看一下。

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EE140为模拟IC设计的基础课程，为模拟设计者必看；
EE240主要侧重运算放大器的设计，从单元电路到模块化，是学习OPA的好课程；
EE247主要侧重滤波器设计、数模转换和模数转换器设计。课程内容很详细，我比较喜欢；

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EE240 ：Advanced Analog Integrated Circuits

EE244和EE249还没来得及学习，大家感兴趣的可以下载看一下。

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EE141为数字IC设计者必看的课程；
EE140为模拟IC设计的基础课程，为模拟设计者必看；
EE240主要侧重运算放大器的设计，从单元电路到模块化，是学习OPA的好课程；
EE247主要侧重滤波器设计、数模转换和模数转换器设计。课程内容很详细，我比较喜欢；
EE242主要讲述RF电路，包括LNA，Mixer，Oscillator等电路的设计；
EE243是讲工艺和Layout的；
EE244和EE249还没来得及学习，大家感兴趣的可以下载看一下。

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设计。课程内容很详细，我比较喜欢；
EE242主要讲述RF电路，包括LNA，Mixer，Oscillator等电路的设计；
EE243是讲工艺和Layout的；
EE244和EE249还没来得及学习，大家感兴趣的可以下载看一下。

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5、EE243 ：Advanced IC Processing and Layout Description: The key processes for the fabrication of integrated circuits. Optical, X-ray, and e-beam lithography, ion implantation, oxidation and diffusion. Thin film deposition. Wet and dry etching and ion milling. Effect of phase and defect equilibria on process control.

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5、EE243 ：Advanced IC Processing and Layout
Description: The key processes for the fabrication of integrated circuits. Optical, X-ray, and e-beam lithography, ion implantation, oxidation and diffusion. Thin film deposition. Wet and dry etching and ion milling. Effect of phase and defect equilibria on process control.

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5、EE243 ：Advanced IC Processing and Layout
Description: The key processes for the fabrication of integrated circuits. Optical, X-ray, and e-beam lithography, ion implantation, oxidation and diffusion. Thin film deposition. Wet and dry etching and ion milling. Effect of phase and defect equilibria on process control.

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Optical, X-ray, and e-beam lithography, ion implantation, oxidation and diffusion. Thin film deposition. Wet and dry etching and ion milling. Effect of phase and defect equilibria on process control.