关于版图LVS验证出现ERROR: Nothing in layout的问题

njupt_nzt · 发表于 2025-2-28 12:48:03

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请问一下，为什么过lvs的时候会出现下边这两个error：
ERROR: Corresponding cells could not be identified.
ERROR: Nothing in layout.

这是为什么？应该怎么改？

190993300 · 发表于 2025-3-1 07:38:48

原因挺多，包括不限于：
1 streamout里有没有用map转换为别的工艺导致层不识别
2 rule里未规定版图中的器件类型
3 有没有使用box
。。。。

我本是高山 · 发表于 2025-2-28 19:08:56

njupt_nzt 发表于 2025-2-28 16:22
就是在DBtech工艺中，M1_POLY的过孔不能打在poly上边，只能把poly延伸出来打孔。之前用smic工艺可能会报d ...

直接打在poly上跟延伸出来打孔有什么太大的区别吗？

A565417449 · 发表于 2025-2-28 16:49:14

njupt_nzt 发表于 2025-2-28 16:22
就是在DBtech工艺中，M1_POLY的过孔不能打在poly上边，只能把poly延伸出来打孔。之前用smic工艺可能会报d ...

你觉得会啥这个工艺不会出报告尼

njupt_nzt · 发表于 2025-2-28 16:22:42

光非发表于 2025-2-28 16:05
Cont 打在了 Gate 上？？？？？

就是在DBtech工艺中，M1_POLY的过孔不能打在poly上边，只能把poly延伸出来打孔。之前用smic工艺可能会报drc错误，但至少不会不出报告

光非 · 发表于 2025-2-28 16:05:10

njupt_nzt 发表于 2025-2-28 15:56
破案了，DBtech这个工艺不能把poly的通孔打在poly里边，不然它会认为这不是一个mos管，所以会出现识别不到 ...

Cont 打在了 Gate 上？？？？？

njupt_nzt · 发表于 2025-2-28 15:56:32

破案了，DBtech这个工艺不能把poly的通孔打在poly里边，不然它会认为这不是一个mos管，所以会出现识别不到器件的问题

happy_star · 发表于 2025-2-28 14:51:47

看看是不是电源或者地label没打

njupt_nzt · 发表于 2025-2-28 14:12:14

A565417449 发表于 2025-2-28 13:19
CSMC工艺吗

DBtech工艺

23345 · 发表于 2025-2-28 13:47:16

rule 不对的概率大点

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