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[求助] 芯片反向提图电容的问题

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发表于 2025-4-2 16:29:25 | 显示全部楼层 |阅读模式

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根据芯片的照片,可以看出C35是一个MIM电容,C1946是一个poly电容,比较迷惑的是C10电容所在的位置,是否是一个poly电容和一个MIM电容重叠呢?这样设计有什么好处吗?

poly层、M1、M2、M3层图像分别如下。


poly

poly

M1

M1

M2

M2

M3

M3
发表于 2025-4-2 16:38:00 | 显示全部楼层
上层金属MIM电容叠MOS电容,常见的版图设计,可以节省面积。
发表于 2025-4-2 16:43:41 | 显示全部楼层
省面积

 楼主| 发表于 2025-4-2 18:05:37 | 显示全部楼层


110006 发表于 2025-4-2 16:38
上层金属MIM电容叠MOS电容,常见的版图设计,可以节省面积。


好的谢谢!
发表于 2025-4-2 22:48:43 | 显示全部楼层
集成自举电路的 DC-DC 降压型转换器 西电的博士论文 P79
PixPin_2025-04-02_22-48-11.png
 楼主| 发表于 2025-4-3 10:57:49 | 显示全部楼层


老干部金戈 发表于 2025-4-2 22:48
集成自举电路的 DC-DC 降压型转换器 西电的博士论文 P79


谢谢啦,我去找一下原文读下!
发表于 5 天前 | 显示全部楼层
Thanks
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