LEAN ESD开启对国内中高端半导体光罩制造企业提供独有的静电管控技术支持

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  光罩或光掩膜版（photomask or reticle）作为半导体制造（lithography process in SEMI wafer Fabrication）的重要精密制程工具，对静电影响（EFM & ESD）呈现显著的敏感度（180nm node or above），40nm node及以上的光罩在现实的光罩 Fab以及SEMI wafer Fab生产制程中的静电导致的问题已经非常突出，包括ESD导致的Chrome pattern损伤、EFM导致的chrome pattern形貌变异等。

图1：光罩Fab制程设备中典型的静电管控环节-传送取放（来源：Internet，如有侵权，请告知删除）


  LEAN ESD公司2025年伊始，已正式开启对国内中高端光罩制造企业提供独有的静电管控技术支持（包括干式环境与湿制程环境的mask静电风险勘测、静电风险解决方案以及相关制程设备与SMIF pod的局部改造），覆盖来料blank至mask pellicle mount、packaging全流程。