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大家好,我是一名本科生,目前正在学习Cadence的使用。我使用的工艺库是smic18mmrf。我根据参考资料进行仿真,发现,MOS管仿真的I-V特性和根据工艺库参数计算的I-V特性并不相同。
我使用的是NMOS4,'n18',Vth=0.6679V, W=L=1.4um ,tox=6.65nm , un=0.350 ,介电常数8.85e-12*3.9。
根据这个参数得到的计算饱和电流如下图所示:
我就感到很困惑,使用的library是ms018_v1p9_spe.lib tt,但是仿真结果如下所示:
Simulated I-V Character of NMOS4
是我搞错了参数,还是仿真设置有问题?
希望前辈们能够不吝赐教,谢谢! |