process 和threshold voltage variation的影响

亭ting

工艺变化还有阈值电压波动对电路影响比较大。怎么求评估这个结果呐？比如，在亚阈值工作区，NMOS宽度取0.5u左右的电流与取0.16左右的电流比较接近？因为尺寸大了，电容和功耗就容易大。但是尺寸小了，是不是又会受到上面说的阈值电压波动的影响。所以不知道应该怎么去确定这个值。

seu_huzw

回复 1# 亭ting

亚阈值区晶体管的波动会特别大，建议你用spice进行蒙特卡罗分析去看波动情况。

亭ting

回复 2# seu_huzw


   多谢啦！那用蒙特卡洛仿真，就可以评估出它的最终优坏是吗 ？对这个做蒙特卡洛仿真这个理解不少很深，我只知道好像是让它在很多不同工艺情况下仿的，但是这个工艺波动是随机的吗 ？还是应该怎么理解呐。