回复 21# sMiner
传统的Pcell QA工具在验证LVS是否Correct 时,用户需要针对不同器件设置较多与连接性相关的参数才能达到LVSClean,Barde工具大大简化了该流程,用户仅需设置几个全局性的参数而无需关注具体Pcell器件具体内容即可达到LVS Clean。为达到该目标,barde创造性地提出了如下3项解决方案: l
Pcell连接性Layer设置采用了全局P型、N型、Gate、Metal的4类Connect Layer自底向上顺序定义方法,针对任意器件的terminal都可以在layout上自动添加Pin的信息,彻底解决了LVS连接性自动生成的难点。 l
针对Pcell多个instance的P型衬底在layout端自动连接为一个节点,但是在schematic端需要人工设置节点来保证LVS clean的难点,提出了Isolate Layer或者Isolate Ring的全局性设置概念,用户只需要全局设置一个参数,就可以解决所有Pcell器件的衬底连接一致性难点。 l
针对Pcell的仿真参数特别是MOS管的WPE等先进工艺需要用到的精细仿真参数,提出了Full Parameter QA的概念,工具可以自动比对MOS管所有仿真参数的callback函数计算结果与Calibre Code/PVS Code提取的仿真参数是否一致,大大提高了Pcell的Callback参数准确性验证。 除了以上3个创新点外,Barde工具还实现了传统Pcell QA工具没有实现的如下功能: l
实现了LVS Runset的自动QA,其中自动检查每个器件的Layer是否满足Must Exist和Non Exist对LVS器件提取至关重要,工具通过读取Layer Truth Table或者Layer Expression的输入全面检查LVS Runset的正确性。 l
实现了RCX Runset的自动QA,可自动比对QRC, StarRC, Calibre XRC等RCX工具提取工具的精度及误差,并给出统计分析报表,针对不同Structure的提取结果,给出了S/W等参数变化曲线图,帮助用户分析具体误差原因。 由于Barde工具在连接性处理的高度自动化,比传统的Pcell QA工具带来2大优势: l
针对Pcell的Simulation前后仿真操作,Barde工具可以全自动针对每个pcell器件的layout加入Pin节点信息,全自动加入仿真激励和比对仿真结果,并输出统计分析表格,大大减少了人工修改和添加layout节点的操作。 l
针对带有典型Pcell器件的寄生参数提取QA,Barde工具可以全自动针对每个pcell器件加入Pin节点信息,全自动进行寄生参数提取和结果分析,大大减少了人工修改和添加layout节点的操作。 Barde工具在处理14nm 以下 Finfet先进工艺中,相比传统工具具有如下2点优势: l
自动对Double Pattern的layer进行Lock Color操作,保证LVS Clean。 l
自动对先进工艺的MOS等器件的衬底Layer进行特殊处理,保证LVS Clean。 综上,Barde工具相比传统的Pcell QA工具具有自动化程度高、检查项全面、准确性高和支持先进工艺特殊处理等多项优势。 barde工具 + scout工具组成了PDK全流程验证的平台,支持DRC Runset/ LVS Runset/ RCXRunset/ Pcell的全流程验证,是业界唯一提供PDK全流程验证的工具包。 |