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楼主: 2008ql

[求助] bandgap测试结果离散性很大,请各位大神支招

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 楼主| 发表于 2017-1-17 21:42:54 | 显示全部楼层
今天又了测了一些,大概有70颗了,做了下统计分析,平均值到了1.28V,均方差130mV.
应该不会有漏电,测试没有发现奇怪的电流,分析上没有发现PN正偏或击穿的情况,如果有漏电,结果也应该往一个方向偏,不知理解对不对。
发表于 2017-1-18 11:00:28 | 显示全部楼层
不知道具体是什么工艺。看了一下大概有几点问题。
(1)结构问题,PTAT+CTAT认为增加了CTAT branch,增加了一路mismatch,如果不是对CTAT有要求,完全没有必要这么做。
(2)电阻L=0.5um太小了,以tsmc65nm为例,L最小做到0.4um,但是要做match和控制方块电阻的情况下,没人会用最小的L,一般PDK调出来的defualt L=2um是比较常用的,L=1um也能接受,而且L大一点,W也会大,电阻面积大,对控制电阻比例关系有帮助。
(3)PMOS电流镜size不算大,HV的MOS match会差一些,就像IO MOS比 core device 差一样。 底下的nmos也要考虑mismatch,VTH的offset直接进了ΔVBE,而这个ΔVBE才54mV
(4)通常来说,高压下的bandgap更容易做,有更大的headroom可以利用。要在1V supply下做,会痛苦一点点。
发表于 2017-1-18 12:41:03 | 显示全部楼层
看一看先
 楼主| 发表于 2017-1-18 16:44:57 | 显示全部楼层
回复 12# fuyibin

用的是55nm工艺,电阻W最小做到0.4um。
发表于 2017-1-19 03:27:35 | 显示全部楼层
回复 10# 2008ql

你关注的问题没错,正常工作没有问题,要注意上电过程。。比如非常快速上电。。会担心低压pmos管子问题,在实际应用中会有latch保护。 但由于一般电源上电不会快的离谱的nS级,所以内部上电一般可用。回到楼主电路,在我看来至少nmos使用完全没有问题。
发表于 2017-1-20 16:10:12 | 显示全部楼层
CASCODE 电流镜低压在上面,高压在下,高压是开关,只是VDS高压,设计中注意VGS保护,同时注意瞬态。
发表于 2017-1-22 12:36:55 | 显示全部楼层
偏差的主要来源:
1:最上面的PMOS,和bjt上面的NMOS,假设这两个合起来产生5mV的偏差,就会在输出产生50mV的偏差,现在有两个支路,偏差会到70mV;
2:电流镜的偏差,假设2.5%,那么在输出也会产生32mV偏差,结合两路就是45mV;
这样加起来就有115mV了,加上其他的,应该和你实测差不多
建议:所有管子WL同比例加大,那么sigma也能成比例减小。
 楼主| 发表于 2017-1-22 16:26:26 | 显示全部楼层
回复 16# huangniuniu

谢谢。这种cascode电流镜的设计理论上应该是可以的。


目前还没有这方面钳位保护的设计经验。


您能不能再推荐一些资料。万分感激。
 楼主| 发表于 2017-1-22 16:41:42 | 显示全部楼层
回复 17# JohnHilo

像这种高压PMOS/NMOS,工艺上限制W>=3um,L<=10um,原来PMOS尺寸取2*3um/5um,vdsat约200mV,尺寸同步增大的话,如2*6um/10um,再大的话,vdsat就100mV+了,总感觉这么高的电源,MOS vdast取的太小不合适。另外尺寸增大到2*6um/10um,离散程度会减小多少,没有失配参数,只能靠粗粗地估计了。
发表于 2017-1-23 09:08:29 | 显示全部楼层
回复 19# 2008ql


   同比例增长宽长比会减小vdsat?
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