Bad device in LVS check

mliu_2014 · 发表于 2016-5-16 15:23:39

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LVS 时layout 提不出管子，报错为Bad device on multi layer......

单独实验的时候发现只要加Dummy管，LVS就过不去，去掉就能过。

后来发现是一个叫 MULTI 的layer 的问题，必须把这个层删掉才可以

Bad Device

去掉的方法，勾选方框项：

一定要选中

或者选中管子，Flatten之后删掉该层。（不推荐，很可能误删！）

建议：画版图时，用 Layout XL 自动调管子，这样就不会出现这个烦恼。Dummy也复制已有的修改。

调Instance 的时候记得勾选选项。

suly · 发表于 2016-5-16 15:50:50

什么工艺

fzu_physics · 发表于 2016-5-16 17:45:02

提不出管子，那是你画的管子没有跟lvs文件定义的管子对应上

mliu_2014 · 发表于 2016-5-17 09:39:42

回复 2# suly

IBM SiGe(BiCMOS) 的

mliu_2014 · 发表于 2016-5-17 10:21:36

回复 3# fzu_physics

extract

对的，找到了LVS extract Rule。

但是有个疑问，有MULTI 那层不是应该识别成 nfet_mul么？怎么什么也提不出来？

多谢指教~

Yestare · 发表于 2016-5-24 10:01:14

LVS 形不成device 的原因有很多種, 需要具體問題具體分析.

fuyibin · 发表于 2016-5-24 16:01:50

这是pdk里 layout device的约束层导致的？
多个元件可以自动排成interdigit，可能需要加cad layer 来识别和LVS check
结果形成了两种device

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