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[求助] diode加了SAB层过不了lvs

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发表于 2015-12-31 17:23:56 | 显示全部楼层 |阅读模式

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如题,有个dioed用在了IO位置,就在DIODE的P端加了SAB层,但LVS不能识别这样的diode,该怎么办呢?
另外foundry的rule写的太复杂了,不想改
发表于 2016-1-2 16:27:51 | 显示全部楼层
要么改文件,要么改layer
发表于 2016-1-4 09:20:06 | 显示全部楼层
成熟一点儿。
文件不认识器件,不想改文件也不想改器件,那就只有report出来这个错了。这是最不建议的结果。
发表于 2016-1-4 09:52:25 | 显示全部楼层
或者不加SAB,改成串联个小电阻行不行?
发表于 2016-1-4 11:10:42 | 显示全部楼层
waive 這個錯
发表于 2016-1-4 11:15:11 | 显示全部楼层
纯粹瞎搞,没听说过diode需要加SAB的。
首先要搞清楚要想做出来什么器件,不懂半导体工艺能瞎整么
saliside是用来做欧姆接触的,加SAB莫非想做出一个金半接触的肖特基结
contact没有saliside,直接打到silicon上能保证良率么?
发表于 2016-2-24 14:57:34 | 显示全部楼层
回复 1# qianjun526


这个问题的解决:1.LVS 不pass, waive 2.修改LVS file.
我可以帮你改LVS file, 很简单. 有需要可以联络 qq:269067956
发表于 2016-2-25 13:30:11 | 显示全部楼层
顶六楼!不知道你在那里加SAB是个什么意思!首先你这样改了之后model就不再是fab提供的了,你的仿真结果就不准!第二,不要随便改lvs 的code因为里面涉及到很多model的信息。你改的不好,或许能过,但是不敢保证是否会影响到你RC 的抽取!!
发表于 2016-2-26 11:03:19 | 显示全部楼层
回复 6# fuyibin


   他这个Diode用在IO口,应该是个ESD吧,加层sab,增加阻抗,增加抗ESD的能力,这样做不行吗?NMOS管型的ESD,漏端不也是加了层sab吗?
发表于 2016-2-29 09:06:14 | 显示全部楼层

标题




首先打contact的地方必须做silicide,这是工艺上必须的,没有什么可以讨价还价的。
mosfet s/d的sab做法等效于串联小电阻,使得esd电流均匀,但是contact地方是没有sab的。
diode是纵向导电的,而且一样导通电阻小,加sab有什么意义
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