在线咨询
eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
切换到宽版

EETOP 创芯网论坛 (原名:电子顶级开发网)

手机号码,快捷登录

手机号码,快捷登录

找回密码

  登录   注册  

快捷导航
搜帖子
查看: 3293|回复: 5

[讨论] Standard cell placement tile 汉语如何翻译或理解?

[复制链接]
发表于 2013-10-21 22:28:40 | 显示全部楼层 |阅读模式

马上注册,结交更多好友,享用更多功能,让你轻松玩转社区。

您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?注册

x
Standard cell placement tile is used during the placement phase. The placement tile is defined by one vertical routing track and the standard cell height.


如上段话,如何理解placement tile 的含义?
发表于 2013-10-22 08:39:50 | 显示全部楼层
placement tile就是如果metal2是vertical direction routing,那metal2的pitch就是tile的寬度而cell hight就是tile的高度
 楼主| 发表于 2013-10-22 09:52:50 | 显示全部楼层




    因为在Routing的时候,每一层Metal wire的space不一定相等,有的线间距离可能大一点,有的距离小一点,   不同的metal2 的pitch随着space的不同而不同,现在想知道space tile是不是一个固定的数值还是随着metal2的space不同而不同?
发表于 2013-10-22 10:28:32 | 显示全部楼层
回复 3# 729050850

這是要看你的standard cell pin出在哪一層決定的
发表于 2013-10-22 11:28:26 | 显示全部楼层
回复 3# 729050850


    Tile的大小跟工艺有关,定义在tf文件里面。
Tile “unit” {
                 width   = 2.5
                 height  = 14.95

Milkyway读入tf文件,会有这个unit的选项,确定使用这个Tile就会生成unitTile的CEL view,这应该是placement阶段cell移动的最小距离。

个人猜想:如果cellM2出pin,布线的时候打孔到M3,应该可以自己定义Tile,把width改成M3的pitch,毕竟你的走线要以M3的track为准,移动cell后的位置对不准,应该会影响track利用率吧

请多指教
 楼主| 发表于 2013-10-22 12:11:17 | 显示全部楼层
本帖最后由 729050850 于 2013-10-22 12:26 编辑


回复  729050850


    Tile的大小跟工艺有关,定义在tf文件里面。
Tile “unit” {
               ...
jstaishi 发表于 2013-10-22 11:28


首先感谢楼上两位大侠指点
   我也认为Place tile指的是出Pin的那层金属(如果被定义为vertical direction)或者它的上一层金属(如果被定义为vertical direction)的最小Pitch
  现在假设出pin的Metal为M2,如果金属2被定义为vertical direction  那么Place tile指的就是M2的最小Pitch,如果金属2被定义为horizontal direction,  那么Place tile指的就是M3(M2是水平方向,M3为垂直方向)的最小Pitch      还请论坛内大侠们不吝指点
您需要登录后才可以回帖 登录 | 注册

本版积分规则

关闭

站长推荐 上一条 /2 下一条

×

小黑屋| 手机版| 关于我们| 联系我们| 在线咨询| 隐私声明| EETOP 创芯网
( 京ICP备:10050787号 京公网安备:11010502037710 )

GMT+8, 2024-11-23 08:26 , Processed in 0.018689 second(s), 7 queries , Gzip On, Redis On.

eetop公众号 创芯大讲堂 创芯人才网
快速回复 返回顶部 返回列表