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[讨论] 为什么有的工艺,via 或con不超过两排时,间距的问题!

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发表于 2013-1-16 11:13:25 | 显示全部楼层 |阅读模式

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为什么有的工艺,via 或con不超过两排时,间距比如是0.26,超过三排时,间距就一定要大于0.26呢?有牛人解释下不?
发表于 2013-1-16 12:38:07 | 显示全部楼层
同求啊
 楼主| 发表于 2013-1-16 13:02:05 | 显示全部楼层
希望有人回答下!
发表于 2013-1-16 14:15:11 | 显示全部楼层
density问题,via或者contact是个圆柱体,过密过稀疏会造成low yield.
发表于 2013-1-16 16:17:40 | 显示全部楼层
黑就係 DFM ㄉ 奧義
如同 有些製程 Metal space 大於 10 就 要 放大
那 9.99 和 10 只差0.01 為何不用
製程能力也有關
发表于 2013-1-21 10:08:53 | 显示全部楼层
要打大量的孔时,一般都采取稀疏一点。过密会影响金属的平整度,反而影响金属性能。
发表于 2013-1-21 12:14:36 | 显示全部楼层
回复 1# zhuyujun


   buzhidaone
发表于 2013-2-27 11:01:54 | 显示全部楼层
会影响良率,极端情况会出现芯片被拉裂
发表于 2013-3-26 15:06:59 | 显示全部楼层
密度太大,填充不好吧
发表于 2013-3-26 15:50:25 | 显示全部楼层
密度太大会有可能挖不到底 造成断路
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