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楼主: rainheart

请教一下 为何在带隙电路中多用PNP 而 不用NPN

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发表于 2009-1-12 16:22:07 | 显示全部楼层
衬底为p,这样比较方便利用 pdiff_in_nwell, nwell, sub构成纵向pnp
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发表于 2009-1-23 14:07:27 | 显示全部楼层
學習學習!
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发表于 2009-1-29 21:29:42 | 显示全部楼层
学习学习
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发表于 2009-2-1 16:36:37 | 显示全部楼层
学习了!
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发表于 2009-2-5 21:43:37 | 显示全部楼层
原来如此!
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发表于 2009-2-5 22:34:22 | 显示全部楼层
长知识了!
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发表于 2009-2-6 16:14:11 | 显示全部楼层
因为是CMOS工艺,用VPNP不会增加层次而增加成本。。
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发表于 2010-3-16 23:06:10 | 显示全部楼层
这个是工艺的问题,pnp管可以在标准cmos工艺中制造啊,npn不行
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发表于 2010-3-17 19:57:11 | 显示全部楼层





   
不知道深阱在体内的一致性如何呢
ps:有几个语法错误
tgaayd 发表于 2009-1-11 11:45



这两个问题提得很好,值得探讨
目前Mixed-Signal CMOS工艺和RF CMOS工艺都有DNW,
确实存在npn,就是不知道性能咋样,请高手指教
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发表于 2010-3-19 00:09:55 | 显示全部楼层
mixed signal cmos 工艺里的npn一般比pnp性能好很多.实际上非常头疼的问题是怎么能把pnp性能提高



   
这两个问题提得很好,值得探讨
目前Mixed-Signal CMOS工艺和RF CMOS工艺都有DNW,
确实存在npn,就是不知道性能咋样,请高手指教
abonic 发表于 2010-3-17 19:57

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