蒙卡仿真中corners processs mistach 区别是什么

mimmimhu · 发表于前天 10:55

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本帖最后由 mimmimhu 于 2025-9-2 09:13 编辑

最近在仿真蒙卡的时候想到，一般都只仿真tt的结果，不仿真corner，这里有什么原因吗，不太理解corner和process有什么本质的区别。

查了一些资料，我的理解是：

corner：设定不同器件的工艺状态，对应一颗die上的corner，同类型器件的工艺状态是一致的
process：表示为L2L，w2w，d2d的工艺差异，die内的工艺是确定的，这样理解的话corner和process是一样的，在仿真MC的时候设定corner是没有意义的，因为process的会随机产生不同corner的die，processs的随机性会把L2L、W2W、D2D、的区别都带进来，其中D2D的区别就是corner
mismatch：在process的基础上，对die内的同类型器件设定随机差异

个人理解，欢迎懂mc仿真的大佬交流讨论，期待回复

mimmimhu · 发表于前天 17:38

咋没人呢大家来交流啊啊啊

143800 · 发表于前天 17:46

global跟local的区别 process是local mismatch是global

mimmimhu · 发表于前天 18:03

143800 发表于 2025-9-1 17:46
global跟local的区别 process是local mismatch是global

谢谢回复

具体解释一下可以吗我理解process是global mismatch是local

mimmimhu · 发表于前天 18:04

mimmimhu 发表于 2025-9-1 17:38
咋没人呢大家来交流啊啊啊

谢谢唐老师

哪个群呀唐老师方便拉一下吗我进去看看

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