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[资料] Direct Copper Interconnection for Advanced Semiconductor Technology

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发表于 2024-12-19 08:53:46 | 显示全部楼层 |阅读模式

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Direct Copper Interconnection for Advanced Semiconductor Technology (Dongkai Shangguan)



上官东恺,男,国际知名电子制造及绿色电子专家。1984年获清华大学工学学士、1988年获牛津大学材料学博士。
  曾任美国福特汽车公司高级技术专家和先进电子制造主管。
  华中科技大学讲座教授。
  现任伟创力国际公司技术副总裁、IEEE会士、CPMT学会董事。
  曾获国际制造工程师学会(SME)授予的”电子制造卓越奖”和“杰出青年制造工程师奖”、印制线路板协会(IPC)“总裁奖”等。
  出版2本专著,发表了250多篇论文,拥有21项美国及国际专利。



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Direct Copper Interconnection for Advanced Semiconductor Technology (Dongkai Sha.pdf

27.19 MB, 下载次数: 78 , 下载积分: 资产 -8 信元, 下载支出 8 信元

发表于 2024-12-19 09:41:21 | 显示全部楼层
谢谢分享,下载学习
发表于 2024-12-19 10:01:11 | 显示全部楼层
gooooooooooood
发表于 2024-12-19 11:24:04 | 显示全部楼层
多谢分享 多谢分享 多谢分享
发表于 2024-12-19 12:20:13 | 显示全部楼层
楼主辛苦了
发表于 2024-12-19 17:10:02 | 显示全部楼层
感谢,我也是想要的
发表于 2024-12-19 20:21:01 | 显示全部楼层
kankanxian
发表于 2024-12-19 21:20:57 | 显示全部楼层
kankan
发表于 2024-12-22 03:37:13 | 显示全部楼层
多谢分享
发表于 2024-12-22 15:39:09 | 显示全部楼层
谢谢
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